シート抵抗 英語 意味 - 英語訳 - 日本語の例文

sheet resistance
シート抵抗
sheet resistivity

日本語 での シート抵抗 の使用例とその 英語 への翻訳

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シート抵抗測定渦電流センサー。
Sheet resistance measurement Eddy current sensor.
シート抵抗(Sheetresistance)=Ω/□[読み:オームパースクエア]。
Sheet resistance= Ω/□(ohm per square).
LUMILEADTNO単層膜のシート抵抗率。
Sheet resistivity of a monolayer coating of LUMILEAD TNO.
シート抵抗または厚さのリアルタイムの描写。
Real-time depiction of sheet resistance or thickness.
MOhm/sqから3.000ohms/sqのシート抵抗力検査。
Sheet resistivity testing from 0.1 mOhm/sq to 3,000 Ohm/sq.
シート抵抗モニタリング[Ohm/sq]。
Sheet resistance monitoring[Ohm/sq].
ソフトウェアは直ぐに、シート抵抗またはレイヤーと回路基板の厚さを示す。
Software shows immediately sheet resistance or according layer and substrates thickness.
インラインシート抵抗測定とターゲット利用の最適化。
Inline sheet resistance measurement and optimization of target utilization.
シート抵抗(300k):。
Sheet resistance(300K):.
光学特性評価とシート抵抗測定。
Optical characterisation and sheet resistance measurement.
センサーにより覆われたシート抵抗幅。
Sheet resistance range covered by every sensor.
要求にて多数のレイヤーシステムのシート抵抗測定(フィージビリティ・スタディ)。
Sheet resistance measurement of multilayer systems on request(feasibility study).
段差測定器・膜応力・シート抵抗買取販売のご紹介。
Introduction of a step measuring instrument, the film stress sheet resistance purchase sale.
SHR/シート抵抗
SHR/ sheet resistance.
シート抵抗に従い2nmから2mm。
Nm to 2 mm in accordance with sheet resistance.
薄いフィルムの厚さの測定シート抵抗に従う。
Thickness measurement of thin films In accordance with sheet resistance.
EddyCus®TFラボコントロールは、シート抵抗測定、データ追跡、およびデータ分析用のユーザーフレンドリーのソフトウェアです。
The EddyCus® TFlab control is a user-friendly software for sheet resistance measurement, data tracking, and data analysis.
シート抵抗分析器は、システム構成およびデータレビューのユーザーフレンドリーのソフトウェアです。
The sheet resistance analyzer is a user-friendly software for system configuration and data review.
それに優秀なレーザーの切断の性能、低いシート抵抗、優秀なweatherability、よい硬度および優秀で強い付着があります。
It has excellent laser cutting performance, low sheet resistance, excellent weatherability, good hardness and excellent strong adhesion.
段差測定器・膜応力・シート抵抗測定|ナノ・ソルテック株式会社-中古半導体検査計測製造装置買取販売保守。
Introduction of a step measuring instrument, the film stress sheet resistance purchase sale| NANO SOLTECH Japan Inc.
EddyCus®TFシリーズ(薄いフィルム)は、コンタクトする必要のない渦電流検査技術を利用し、薄いフィルムのシート抵抗のリコンタクトのないリアルタイム用装置のセットを含みます。
EddyCus® TF Series(Thin-Film)comprises a set of devices for contactless real-time testing of the sheet resistance of thin films utilizing contact free eddy current testing technology.
それは一般的な誘電性ののり、overglazeののりおよびコンダクターののりが付いている高い発電密度、低いシート抵抗、小さい抵抗の漂流および完全にマッチとあります。
It is with high power density, low sheet resistance, small resistance drift, and perfectly match with the general dielectric paste, overglaze paste and conductor paste.
Si-MOSFETとの違い:内部ゲート抵抗SiC-MOSFETの素子そのもの(チップ)の内部ゲート抵抗:Rgは、ゲート電極材料のシート抵抗とチップサイズに依存します。
Differences with Si-MOSFETs: Internal Gate Resistance The internal gate resistance Rg of an SiC-MOSFET(chip)itself depends on the sheet resistance of the gate electrode material and the chip size.
EddyCus®TFmap2525SR/5050SRは、シート抵抗、厚さ、レイヤー均一性、実効導電率および導電性皮膜の素早いマッピング、ガラス、ウェファー、およびフォイルの薄い物質システムの測定基準です。
EddyCus® TF map 2525SR and5050SR are gauges for fast mapping of sheet resistance, thickness, layer homogeneity, and conductivity effects and defects of conductive films and thin material systems on glass, wafer, and foils.
EddyCus®TFlab4040SRは、製造会社の研究室、R&Dセンター、品質管理部門の大きなサンプルのシート抵抗とレイヤーの厚さのコンタクトのなりフィルムの特性化用の、シングルポイント測定装置です。
EddyCus® TF lab 4040SR is a single-point measuringdevice for quick non-contact film characterization of sheet resistance and layer thickness of large samples in laboratories, R&D centers, and quality assurance departments of manufacturing firms.
多種多様なPVD工程の要求に応えるため、ExtensaTTNチャンバはハードウェアを変更することなく、同一チャンバにて、チタン(Ti)、金属窒化チタン(MetallicTiN)および完全窒化チタン(Fully-nitridedTiN)の成膜が可能です。また、Csライナー、ボンドパッドといったアプリケーションにも対応可能です。同システムの均一なステップカバレージとシート抵抗(不均一性3%1σ以下)により、オーバーハングの低減やボイドフリーのギャップフィルを実現する、より薄いバリアスタックの成膜が可能になります。
Offering uniquely broad PVD manufacturing capability for titanium, metallic titanium nitride(TiN), and fully-nitrided TiN deposition in the same chamber without hardware changes, Extensa TTN can also accommodate Cs liner and bond pad applications.The system's uniform step coverage and sheet resistance(non-uniformity<3% 1σ) allows a thinner barrier stack to be deposited, to reduce overhang and facilitate void-free gap fill.
シート抵抗[Ω/□]。
Sheet resistance[Ω/□].
シート抵抗≤50mΩ/sq。
Sheet Resistance:≤40 mΩ/sq.
シート抵抗または厚さのリアルタイムの陳述。
Real-time depiction of sheet resistance or thickness.
TCO/TCM、物質化、ウェファーのシート抵抗マッピング。
Sheet resistance mapping of TCO/TCMs, metals.
結果: 241, 時間: 0.0186

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