Сe înseamnă SPUTTERING în Engleză - Engleză Traducere

• sputtering
• target

Exemple de utilizare a Sputtering în Română și traducerile lor în Engleză

Cum sputtering lucrări țintă.
How sputtering target works.

Dioxid de siliciu sputtering Ținte.
Silicon Dioxide Sputtering Targets.

(MAN sputtering)-(MUSIC opritori).
(MAN SPUTTERING)-(MUSIC STOPS).

Realizare contacte metalice prin sputtering.
Realisation of metallic contacts by sputtering.

(Sputtering)- lovitură cu mine, acum.
(SPUTTERING)- Kick with me, now.

HIP Purty ridicat laminate sputtering crom pur….
Vacuum melting process HIP sputtering arc chrom….

Sputtering țintă Producator- Alluter.
Sputtering Target Manufacturer- Alluter.

Magnetron de acoperire sputtering țintă tantal sp….
Magnetron sputtering coating target tantalum sp….

Depunere de straturi amorfe prin magnetron sputtering.
Deposition of amorphous layers by magnetron sputtering.

Magnetron de acoperire sputtering țintă tantal sp….
Magnetron sputtering coating target Nickel sput….

Realizare contacte metalice prin pentru PLED sputtering.
Realisation of metallic contacts for PLED by sputtering.

Magnetron de acoperire sputtering țintă Nichel sput….
Magnetron sputtering coating target Nickel sput….

Realizarea de contacte metalice pentru OLED prin sputtering(iunie).
Realisation of metallic contacts for OLED by sputtering(June).

Tantal niobiu aliaj Sputtering producatori fabrica.
Tantalum Niobium Alloy Sputtering Target Manufacturers.

Următor →: de înaltă puritate 99,999% țintă oxid de siliciu sputtering.
Next: high purity 99.999% Silicon oxide sputtering target.

Aceasta se numeşte sputtering placare material ţintă.
This is called the sputtering target material plating.

TiN DLC aliaj de acoperire magnetron sputtering strat….
TiN DLC coating alloy magnetron sputtering coat….

DC acoperire sputtering si acoperire sputtering RF.
DC sputtering coating& RF sputtering coating.

În greutate oxid țintă OIT sticlă indiu staniu magnetron acoperire sputtering.
WT% ITO glass Indium tin oxide magnetron sputtering coating target.

Producția țintă sputtering țintă finalizată și livrată.
Titanium sputtering target production completed and shipped.

Solar PV și industria de încălzire molibden niobiu țintă aliaj sputtering.
Solar PV and Heating industry molybdenum Niobium alloy sputtering target.

Echipament versatil pentru tratarea prin metoda sputtering a textilelor si lemnului;
Versatile equipment for sputtering treatment of textiles and wood;

Anterior: de înaltă puritate 99,999% țintă Silicon magnetron acoperire sputtering.
Previous: high purity 99.999% Silicon magnetron sputtering coating target.

HIP Purty ridicată laminate crom pur sputtering țintă pentru filmul de acoperire.
High purty HIP rolled pure chromium sputtering target for coating film.

Izolarea Calitativ casa containerului poate folosi izolația sputtering.
Qualitatively insulate the container house can use the sputtering insulation.

Anterior: 30: 70at% țintă acoperire sputtering aluminiu crom aliaj magnetron.
Previous: 30:70at% Aluminium Chromium alloy magnetron sputtering coating target.

Următor →: compactitatea bun> 99%(fără porasity) 8020wt% nichel țintă crom sputtering.
Next: good compactness>99%(no porasity) 8020wt% nickel chromium sputtering target.

Folosit pentru sputtering în acoperiri fizice, în principal ținte metalice și ținte ceramice.
Used for sputtering in physical coatings, mainly metal targets and ceramic targets.

Următor →: personalizate prin tragere Zrconium magnetron sputtering țintă de acoperire.
Next: customized by drawing Zrconium magnetron sputtering coating target.

Magnetron sputtering tehnică ajută la creștereaforță atașarea, densitatea strat de film. Specificații Model.
Magnetron sputtering technique helps to increase attaching force, density of film layer. Specifications Model.