血しょう Meaning in English - translations and usage examples

• plasma

Examples of using 血しょう in Japanese and their translations into English

血しょう切断の厚さ:1-32mm。
Flame cutting thickness: 6-160mm.

Q3.私に血しょう機械を推薦できますか。
Q3. Can you recommend a plasma machine to me?

血しょう打抜き機は切断のために使用されます。
The plasma cutting machine is used for cutting.

それはまた総および自由なIGF-1の血しょうのレベルを増加します。
It also increases blood plasma levels of total and free IGF-1.

PHC330血しょう切断のためのアーク電圧の高さ制御。
PHC330 Arc voltage height control for plasma cutting.

つの上昇のメカニズムは近い方法で血しょうTVを上下に持ち上げています。
Lift mechanism is Lifting the plasma TV up or down in a close way.

血しょう切断のアルミニウム、銅および他の非鉄金属;
Aluminum, copper and other nonferrous metal with Plasma cutting;

PMX65/PMX85血しょう消耗品は炭素鋼に火をつけます。
PowerMax65/ Powermax 85 ConsPlasma consumables torch carbon steel.

一方ではLCDに血しょうと比較すると自身の利点がある。
On the other hand the LCD has its own advantages when compared with Plasma.

窒素の三フlト化物はシリコンの薄片の血しょうエッチングで使用されます。
Nitrogen Trifluoride is used in the plasma etching of silicon wafers.

血しょう力:63A-200A/380Vは、血しょう力調節することができます。
Plasma power: 63A-200A/ 380V, the plasma power can be adjusted.

あらゆる構成の血しょうやoxyfuelの切断トーチによって合うことができます。
Can be fitted with plasma and/or oxyfuel cutting torches in any configuration.

血しょう、赤血球、白血球および血血小板。
Blood plasma, red blood cell, white blood cell and blood platelet.

反応沈殿に使用する血しょうガスはアルゴン、窒素およびethyneの混合物です。
The plasma gas used for reactive deposition is a mixture of argon, nitrogen and ethyne.

血しょう、生物的試薬、心臓弁および他の医学分野に使用することができます。
Can be used for plasma, biological reagents, heart valves and other medical fields.

注:私達は血しょう打抜き機によって自由な続くことのためのflamsの髭剃り部を送ります。
NOTE: we send you flams cutting head for free following with plasma cutting machine.

血しょう打抜き機は鉄シート、ステンレス鋼、アルミニウムを切るために適しています。
The plasma cutting machine is suitable for cutting Iron sheets, Stainless steels, Aluminum.

LCDのTVによってモーターを備えられる上昇はスペースを節約するために上下に持ち上がる血しょうTVを取付けるためにdeisgned。
LCD TV motorized lift is deisgned to mount the plasma TV lifting up and down to save space.

私達の管の打抜き機は必要な仕事によって血しょうまたはOxyfuelの切断選択と、合うことができます。
Our pipe cutting machine can be fitted with Plasma or Oxyfuel cutting options, depending on the work required.

Itはetchant血しょうとして単独で電子工学のmicrofabricationでまたは酸素を伴ってのために使用されます。
It is used in electronics microfabrication alone or in combination with oxygen as a plasma etchant for.

打抜き機は版を切ることができ、管の横断ラインは、一組の数値制御システムおよび血しょう力を共有します。
A cutting machine can cut plates and pipe intersecting line, share a set of numerical control system and the plasma power.

ヒトの赤血球中の抗原と血しょうに含まれる抗体によって種類を分けられます。
It is divided by the type of the antigen in human red blood cells and an antibody that is included in the plasma.

血しょう技術のこれの自慢は驚くべき偽りなくであり、それは4000から1のような比率について聞かれるに可能である。
The boast of this in the plasma technology is truly remarkable and it's possible to heard about ratios like 4000 to 1.

リドカインの血しょう結合は薬剤の集中に依存して、一部分の限界は増加する集中と減ります。
The plasma binding of lidocaine is dependent on drug concentration, and the fraction bound decreases with increasing concentration.

十分にfunctionalizedCNCシステムおよびオプトカプラー装置は血しょうシステムの極度の対妨信の機能を高めます。
Fully functionalized CNC system and optocoupler device enhance the super anti-jamming capability of the plasma system.

厚さおよび幅のフルレンジは血しょう切口またはあなたの指定に合うためにせん断されておよび渡された使用可能のどれである場合もあります。
A full range of thicknesses and widths can be plasma cut or sheared to meet your specifications, and delivered ready-to-use.

技術に両方とも明快さに関する大きい検討があるのでそう再度このトピックの血しょうとDLPのテレビを比較すること堅いがある。
So again is hard to compare DLP television to plasma on this topic because both technologies have great reviews regarding the clarity.

それによってはTVを使用する前の場合の中に隠すことができTVが、血しょうTVついています力auotomatically現れます。
It could be hidden inside the case before using TV, and pop up the TV up, the plasma TV will be power on auotomatically.

放出させるマグネトロンはターゲット表面へ血しょうコーティングプロセス材料を放出させることによってですイオンの衝突が出された原因です。
Magnetron sputtering is a plasma coating process where by sputtering material is ejected due to bombardment of ions to the target surface.

それはケイ素、二酸化ケイ素および窒化珪素のためにetchant血しょうとして単独で電子工学のmicrofabricationでまたは酸素を伴って使用されます。
It is used in electronics microfabrication alone or in combination with oxygen as a plasma etchant for silicon, silicon dioxide, and silicon nitride.