SPUTTERING Meaning in English - translations and usage examples

• sputtering

Examples of using Sputtering in Tamil and their translations into English

உலோக sputtering இலக்கு.
Metal Sputtering Target.

அலுமினியம் sputtering இலக்கு.
Pressed sputtering target.

உலோக sputtering இலக்குகள்.
Metal Sputtering Targets.

Nbox சுழற்றுகிறது sputtering இலக்கு.
Nbox Rotating Sputtering Target.

குரோம் sputtering இலக்கு.
Pressed sputtering target.

எப்படி sputtering இலக்கு படைப்புகள்.
How sputtering target works.

Monb அல்லாய் sputtering இலக்கு.
Monb Alloy Sputtering Target.

ரோட்டரி டைட்டானியம் sputtering இலக்கு.
Rotary Titanium Sputtering Target.

உலோக Pd sputtering இலக்கு.
Metal Pd Sputtering Target.

இலக்கு உற்பத்தியாளர் sputtering- Alluter.
Sputtering Target Manufacturer- Alluter.

NIV அல்லாய் sputtering இலக்குகள்.
Niv Alloy Sputtering Targets.

எஸ்எஸ்/ 316L எஃகு மேக்னட்ரான் sputtering CoA….
SS/316L stainless steel magnetron sputtering coa….

குரோமியம் sputtering இலக்கு 99.95%.
Chromium Sputtering Target 99.95%.

AlNd 97: 3wt% அலாய் மேக்னட்ரான் sputtering பூச்சு….
AlNd 97:3wt% alloy magnetron sputtering coating….

தகரம் மற்றும் DLC பூச்சு கலவை மேக்னட்ரான் sputtering கோட்….
TiN DLC coating alloy magnetron sputtering coat….

அடுத்து: வெற்றிடம் உருகும் செயல்முறை& ஹிப் சமதள குரோமியம் உலோக sputtering இலக்கு.
Next: Vacuum melting process&HIP planar Chromium metal sputtering target.

முந்தைய: உயர் தூய்மை 99.999% சிலிக்கான் மேக்னட்ரான் sputtering பூச்சு இலக்கு.
Previous: high purity 99.999% Silicon magnetron sputtering coating target.

முந்தைய: சூரிய PV மற்றும் வெப்ப தொழில் 99.999% sputtering இலக்கு அலுமினியம் இலக்கு.
Previous: Solar PV and Heating industry 99.999% sputtering target Aluminium target.

முந்தைய: 30: 70at% அலுமினியம் குரோமியம் அலாய் மேக்னட்ரான் sputtering பூச்சு இலக்கு.
Previous: 30:70at% Aluminium Chromium alloy magnetron sputtering coating target.

அடுத்து: துளை அல்லது படி எஸ்ஐ+ வெட் பிணைப்பு உலோக sputtering இலக்குடன் L4000mm* W400mm* T40mm.
Next: L4000mm*W400mm*T40mm with hole or step Si+Cu bonding metal sputtering target.

அடுத்து: 10WT% ஐ டி ஒ கண்ணாடி இண்டியம் டின் ஆக்சைடு மேக்னட்ரான் sputtering பூச்சு இலக்கு.
Next: 10WT% ITO glass Indium tin oxide magnetron sputtering coating target.

எஸ்ஐ ரோட்டரி உலோக sputtering இலக்கு சமன் செய்ததன் மூலம் னித்துவ- சீனா Alluter டெக்னாலஜி( ஷென்ழேன்).
Customized by drawing Si rotary metal sputtering target- China Alluter Technology（Shenzhen.

அடுத்து: பிளாட் பேனல் காட்சி பூச்சு தொழில் பித்தளை இலக்கு sputtering செம்பு இலக்கு.
Next: The flat panel Display coating industry brass target copper sputtering target.

ALLUTER sputtering இலக்கு இலக்கு சப்ளையர் sputtering உங்கள் முதல் தேர்வாக இருக்கும் நம்பு!
Believe ALLUTER sputtering target will be your first choice of sputtering target supplier!

அடுத்து: நல்ல இறுக்கம்gt; 99%( எந்த porasity) 8020wt% நிக்கல் குரோமியம் sputtering இலக்கு.
Next: good compactnessgt;99%(no porasity) 8020wt% nickel chromium sputtering target.

Alluter டெக்னாலஜி( ஷென்ழேன்) கோ, லிமிடெட் சீனாவில் முன்னணி sputtering இலக்கு உற்பத்தியாளர்கள் ஒன்றாகும்.
Alluter Technology（Shenzhen） Co., Ltd is one of the leading sputtering target manufacturers in China.

உயர் Purty புரவன் பூச்சு படம் இலக்கு sputtering தூய குரோமியம் பரவியது- சீனா Alluter டெக்னாலஜி( ஷென்ழேன்).
High purty HIP rolled pure chromium sputtering target for coating film- China Alluter Technology（Shenzhen.

WT% ஐ டி ஒ கண்ணாடி இண்டியம் டின் ஆக்சைடு மேக்னட்ரான் sputtering பூச்சு இலக்கு- சீனா Alluter டெக்னாலஜி( ஷென்ழேன்).
WT% ITO glass Indium tin oxide magnetron sputtering coating target- China Alluter Technology（Shenzhen.

ALLUTER நிறுவனத்தின் இலக்குகளை, அதன் மதிப்பு வாடிக்கையாளர்கள் முதல் வகுப்ப் இலிருந்து sputtering இலக்கு பொருட்கள் மற்றும் திருப்தி சேவை வழங்க எங்களுக்கு தொழில்முறை வாடிக்கையாளர்கள் மதிப்புகள் ஆக அனுமதிக்க உள்ளன.
The goals of the ALLUTER company are to deliver the first class Sputtering target products and satisfied service to its valued customers, let us professional to become customers values.

நல்ல இறுக்கம்gt; 99%( எந்த porasity) 8020wt% நிக்கல் குரோமியம் sputtering இலக்கு- சீனா Alluter டெக்னாலஜி( ஷென்ழேன்).
Good compactnessgt;99%(no porasity) 8020wt% nickel chromium sputtering target- China Alluter Technology（Shenzhen.