Какво е " TARGET MATERIAL " на Български - превод на Български

• целевия материал
• целта материал
• целеви материал
• мишена материал

Примери за използване на Target material на Английски и техните преводи на Български

The price of the target material.
Приблизителната цена на обекта.

The target material flew out and deposited on the substrate to form a thin film.
Целта материал излетя и се отлагат върху субстрата да образуват тънък филм.

Tantalum rotating target material.
Танталов въртящ се целеви материал.

Target materials for these lasers include glass, OLED, IC packages/wafers, and flexible thin films.
Целеви материали за тези лазери включват стъкло, OLED, IC пакети/ пластини и гъвкави тънки филми.

The target is the target material.
Целта е целта материал.

In a chromatographic process, the accumulated Lutetium(177Lu) is separated chemically from the original target material.
При хроматографски процес, натрупаният лутеций(177Lu) се отделя химически от първоначалното прицелно вещество.

Need to develop new target materials.
Необходимост от разработване на нови целеви материали.

(10) target material can be made into various shapes, with special designed machine to do better control and the most efficient.
(10) целта материал може да се направи в различни форми, със специално проектирани машина за по-добър контрол и най-ефективните.

Next: tantalum rotating target material.
Следваща: танталов въртящ се целеви материал.

The target material from the surface of argon ion bombardment(sputtering), in front of the target is deposited on the workpiece coating.
Целта материал от повърхността на аргон Йон бомбардировки(разпрашване), пред мишената е депозиран в детайла покритие.

Previous: tantalum rotating target material.
Един чифт: танталов въртящ се целеви материал.

The technical development trend of target materials is closely related to the development trend of thin film technology in downstream industries.
Тенденцията за техническо развитие на целевите материали е тясно свързана с тенденцията на развитие на тънките филмови технологии в индустриите надолу по веригата.

Product Name: tantalum rotating target material.
Наименование на продукта: танталов въртящ се целеви материал.

Elastomer bonding is also suitable for low melting point target materials, temperature sensitive compounds and targets that have either low density or are especially fragile.
Еластомерното свързване е също така подходящо за целеви материали с ниска точка на топене, за чувствителни към температура съединения и цели, които имат ниска плътност или са особено крехки.

Shaanxi Yunzhong has long supplied large quantities of titanium target materials.
Шанси Yunzhong отдавна е доставил големи количества титаниеви целеви материали.

We also recommend elastomer bonding for low melting point target materials, as well as, temperature sensitive compounds and targets that have either low density or are especially fragile.
Еластомерното свързване е също така подходящо за целеви материали с ниска точка на топене, за чувствителни към температура съединения и цели, които имат ниска плътност или са особено крехки.

Each blade has its features, depending on the properties of the target material.
Всеки от тях има свои собствени характеристики поради свойствата на целевия материал.

As we all know, the technical development trend of target materials is closely related to the development trend of thin film technology in the downstream application industry.
Редактиране на полето на приложението Както всички знаем, тенденцията на техническото развитие на целевите материали е тясно свързана с тенденцията за развитие на тънкослойните технологии в индустрията за приложения надолу по веригата.

Mo-V, Mo-Nb alloy target Hitachi developed to add V, Nb target material.
Mo-V, целева Mo-Nb сплав Hitachi разработена, за да добавите V, Nb мишена материал.

Sputtering target materials are mainly used in electronics and information industry, such as integrated circuit, information storage, liquid crystal display, laser memory, electronic controller parts;
Нанасяне на покритие прахово целеви материали са предимно използвани в електроника и Инд информация, като интегрална схема, Стая за съхранение на информация, дисплей с течни кристали, лазерни памет, електронен контролер части;

This is called the sputtering target material plating.
Това се нарича нанасяне на покритие прахово целеви материални обшивка.

Sputter coating, also known as“cathodic sputtering”, is using the erosive action of accelerated ions at the surface of a target material.
Покритието с разпрашване, известно също като"катодно разпрашване", използва ерозивното действие на ускорените йони на повърхността на целевия материал.

Application of sputtering target materials widely, because of various applications, requirements of sputtering target selection and performance of metal materials, there are some differences as follows.
Прилагането на разпрашване целеви материали широко, тъй като на различни приложения, изискванията на разпрашване целеви подбор и изпълнение на метални материали, има някои различия, както следва.

Each of them has its own characteristics due to the properties of the target material.
Всеки от тях има свои собствени характеристики поради свойствата на целевия материал.

In a wide variety of target material, mammography has many excellent features, it is widely used in the flat panel display industry, thin film solar cell industry, the semiconductor industry, medical industry, machining industry and solid lubrication, etc.
В голямо разнообразие от целевата материал, мамография има много отлични характеристики, той е широко използван в плосък панел индустрия дисплей, тънък филм индустрия слънчеви клетки, производството на полупроводници, медицинската промишленост, обработка на индустрията и твърдо смазване и т.н.

Both Mr. Havens and Ms. Andrews reports represented direct correspondences with the target material.”(source).
И двамата г-н и г-жа убежища Andrews докладите представени преки съответствия с цел материал."( източник).

In general, sputtering target is mainly composed of a target blank, back and other parts, which is of high speed target blank ion beam bombardment of a target material, the core part belongs to the sputtering target, in sputtering process, target blank by the ion impinges upon the surface atoms by sputtering deposited on the substrate and fly out into electronic film due to the high purity;
Като цяло нанасяне на покритие прахово target е съставена основно от целеви празен, гръб и други части, което е на висока скорост целеви празно Йон греда бомбардировка на целта материал, основната част принадлежи на нанасяне на покритие прахово цел, в разпрашване процес, целеви празно от Йон impinges при повърхността атоми от разпрашване отлага върху субстрат и излитам в електронни филм поради високата чистота;

Usually need to use other gases, such as nitrogen and acetylene, and was out of the sputtering target material reaction.
Обикновено трябва да се използват други газове като азот и ацетилен и was вън на нанасяне на покритие прахово целеви материал реакция.

According to the application areas are divided into microelectronics target, magnetic recording material and optical disc target, noble metal target material, thin film resistor target, conductive film target, surface modification of target and mask layer targets, decorative layer target material, electrode material, packaging material and other target..
Според приложението области са разделени в микроелектрониката цел, магнитни материали и оптичен диск целеви, благороден метал целеви материал, тънък филм резистор целеви, проводими филм целеви, промяна на повърхността на целеви и маска слой цели, декоративен слой целта материал, електроден материал, опаковъчен материал и други целеви.

(3) by adding the active oxygen or other gas discharge in the atmosphere, or a mixture of compounds can make the target material and gas molecules.
(3) чрез добавяне на активен кислород или други газов разряд в атмосферата, или смес от съединения може да целева материал и газови молекули.