ETCHING EQUIPMENT 日本語 意味 - 日本語訳 - 英語の例文

• エッチング装置

英語 での Etching equipment の使用例とその 日本語 への翻訳

Stone etching equipment.
石造りのエッチング装置。

Completion of high-vacuum etching equipment.
高真空エッチング装置完成。

MRAM Etching Equipment.
MRAM用ドライエッチング装置。

Launch of multi ICP etching equipment.
マルチICPエッチング装置を発売。

Wet Etching Equipment｜SUGA Co., Ltd.
ウェットエッチング装置一覧株式会社菅製作所。

High-precision etching equipment.
高精度エッチング装置。

ITO etching equipment FPD manufacturing equipment..
ITOエッチング装置FPD製造装置。

Developing and Etching Equipment.
現像・エッチング装置。

Dry etching equipment for testing, research, evaluation, and trial production.
実験・研究・評価・試作に最適なエッチング装置。

EC8000 Dry Etching Equipment.
ドライエッチング装置EC8000。

ULVAC contributes to the advancement of technology such as smaller size and high performance sensor production by supplying vacuum deposition equipments, dry etching equipments, and target materials.
アルバックは、各種センサー製造工程において、真空成膜装置やドライエッチング装置、ターゲット材料などを提供し、センサーの小型化や高性能化に貢献しています。

NC8000 MRAM Etching Equipment.
ドライエッチング装置NC8000。

UV laser etching equipment has many advantages. 1.
UVレーザーエッチング装置多くの利点があります。1。

Completion of plasma etching equipment, EXAM.
EXAM型プラズマエッチング装置完成。

Plasma deposition and etching equipment for the semiconductor industry, flat panel display(LCD) and data storage(HDD, DVD) manufacturing.
半導体工業、フラットパネルディスプレイ（LCD）およびデータ記憶（HDD、DVD）ののための血しょう沈殿およびエッチング装置製造業。

Magnetic field ICP high density plasma etching equipment NE-550.
有磁場ICP高密度プラズマエッチング装置NE-550。

Plasma CVD Equipment Plasma Etching Equipment Iron Injection Equipment Sputtering Equipment..
プラズマCVD装置プラズマエッチング装置注入装置スパッタリング装置。

We have the most advanced computer numerical control punching equipment, etching equipment, and various types of light….
我々は、最も高度なコンピュータ数値制御パンチング設備を持っている,エッチング装置,光の様々なタイプの…。

With our vacuum deposition equipment, etching equipment, and ion implantation equipment, etc., ULVAC will contribute to the production process of power devices that use new materials as well as conventional Si.
アルバックは、真空成膜装置やエッチング装置、イオン注入装置などで、従来のSi素材のみならず、新たな素材でのパワーデバイス製造工程に貢献してまいります。

We have a clean room facility that we can assemble plural G6 generation(substrate size: 1500mm x 1800mm) dry etching equipment in parallel, and hold stable equipment manufacturing capability.
複数のG6世代（基板サイズ：1500mm×1800mm）ドライエッチング装置を並行して組立可能なクリーンルーム設備を有し、安定した装置製造能力を確保しております。

For example, our bearings are used in the wire saws used to cut silicon wafers of solar cells, the etching equipment and diffusion furnaces of the cell process, conveyance robots used in all processes, sun-tracking devices used in photovoltaic power generation equipment, as well as the main shaft of wind turbines, gear-reducer, generators and swiveling parts in the area of wind power generation.
太陽電池は、シリコンウェハーの切断用に使用する「ワイヤーソー」、セル工程におけるエッチング装置や拡散炉、工程を通しての搬送ロボット、太陽光発電設備における太陽光追尾装置など、風力発電機では、風車主軸、増速機、発電機、旋回部にベアリングが使用されています。

NC8000 MRAM Etching Equipment.
NC8000MRAM用ドライエッチング装置。

Low pressure, high-speed etching equipment with LIA-ICP.
LIA-ICPを搭載した低圧力帯の高速エッチング装置です。

Started selling developing and etching equipment(made by Takizawa Co., Ltd.).
現像・エッチング装置（滝沢産業株式会社製）の販売を開始。

We continue to provide ion implanters, sputtering equipment and etching equipment as“ULVAC Solutions” to enhance performances of power devices and environmental devices.
アルバックは、環境デバイスであるパワーデバイスの高性能化に向けて、イオン注入装置のみならず成膜装置やエッチング装置等さまざまなソリューションを提供してまいります。

Our semiconductor grade graphite is an ideal material for current and legacy Etch equipment.
インテグリスの半導体グレードのグラファイトは現行および従来型のエッチング装置に理想的な材料です。

Technavio's analysts forecast the global semiconductor etch equipment market to grow at a CAGR of 3.77% during the period 2018-2022.
Technavio社はCMP装置の世界市場が2017-2021年期間中に年平均6.71%成長すると予測しています。

Technavio's analysts forecast the global semiconductor etch equipment market to grow at a CAGR of 3.77% during the period 2018-2022.
Technavio社は半導体生産装置の東南アジア市場が2017-2021年期間中に年平均9.27%成長すると予測しています。