PLASMA ETCHING 日本語 意味 - 日本語訳 - 英語の例文

• プラズマエッチング

英語 での Plasma etching の使用例とその 日本語 への翻訳

Plasma etching unit, EXAM.
プラズマエッチング装置EXAM。

Optical diagnostics for plasma etching.
プラズマエッチング◇plasmaetching。

Table-top plasma etching instrument.
卓上プラズマエッチング装置。

The present invention relates to a plasma etching apparatus.
本発明は、プラズマエッチング装置に関する。

ICP plasma etching unit, SERIO.
ICPプラズマエッチング装置SERIO。

Magnetic field ICP high density plasma etching equipment NE-550.
有磁場ICP高密度プラズマエッチング装置NE-550。

Batch type plasma etching unit with 250× 250 mm processing stage.
Mm□の処理ステージを持つバッチ式プラズマエッチング装置です。

Nitrogen Trifluoride is used in the plasma etching of silicon wafers.
窒素の三フlト化物はシリコンの薄片の血しょうエッチングで使用されます。

SERIO is a plasma etching unit with a high-density ICP plasma source.
SERIOは高密度ICPプラズマソースを搭載した高密度プラズマエッチング装置です。

Fig. 1: Formation of BiCS FLASH™ memory cells Fig. 2: Underlying technologies for plasma etching.
図1：BiCSFLASH™のメモリセル形成図2：プラズマエッチングの要素技術。

Completion of plasma etching equipment, EXAM.
EXAM型プラズマエッチング装置完成。

Plasma etching unit, EXAM Production and Sales of Vacuum Pump and Vacuum Equipment｜Shinko Seiki Co., Ltd.
プラズマエッチング装置EXAM真空ポンプ・装置の製造・販売｜神港精機株式会社。

A Bosch research team invented the“plasma etching” process for manufacturing these miniature parts.
ボッシュの研究チームは、これらの微小部品のために「プラズマエッチング」プロセスを開発しました。

ICP plasma etching unit, SERIO Production and Sales of Vacuum Pump and Vacuum Equipment｜Shinko Seiki Co., Ltd.
ICPプラズマエッチング装置SERIO真空ポンプ・装置の製造・販売｜神港精機株式会社。

We maintain manufacturing technology of display by using freely far infrared rays heating technology and plasma etching technology.
ディスプレイビジネスユニットは、遠赤外線加熱とプラズマエッチングを駆使し、ディスプレイ分野の製造技術を支えています。

Plasma CVD Equipment Plasma Etching Equipment Iron Injection Equipment Sputtering Equipment.
プラズマCVD装置プラズマエッチング装置注入装置スパッタリング装置。

It is suitable for the processing of customer-specific substrates through RF plasma etching, DC, RF and ion beam sputtering.
このシステムは、顧客特有の基板の処理をRFプラズマエッチング、DC、RF、イオンビームスパッタリングによって行うのに適しています。

The RF plasma etching and magnetron sputtering processes are performed in process-down mode.
RFプラズマエッチングとマグネトロンスパッタリングプロセスはプロセスダウンモードで実行されます。

In the process of fabricating trench MOSFETs, in addition to these process technologies, plasma etching technology is also used to form trench gate regions.
トレンチMOS-FETにおいてはこれらのプロセス技術にトレンチゲート部の形成技術としてプラズマエッチング技術が追加される。

Plasma etching may remove portions of the electroactive polymer not protected by the mask in a desired pattern.
Plasmaetchingmayremoveportionsofthe electroactivepolymernotprotectedbythemaskinadesiredpattern.続いて、マスクは、適切なウェットエッチングによって除去できる。

The hard bake solidifies the remaining photoresist, to make a more durable protecting layer in future ion implantation, wet chemical etching, or plasma etching.
ハードベークは残りの部分を凝固させるフォトレジスト将来のイオン注入、湿式化学エッチング、またはプラズマエッチングにおいて、より耐久性のある保護層を作製することができる。

ICP plasma etching system for PSS Process ULVAC's ICP plasma etching system provides two latest achievements for PSS process as described below.
ICPプラズマエッチャーによるPSS加工プロセスアルバックのICPプラズマエッチャーによるPSS加工プロセスの最新の成果として、以下の2点を挙げる。

In this decisive final phase of development for the 14nm node, the CEA-Leti Plasma Etching& Stripping Laboratory will join forces with Nanoplas to ensure full qualification of their tool.
Nmノードの開発最終段階に入り、CEA-Letiプラズマエッチング&ストリッピング研究所では、Nanoplas社と協力し、このツールが完全に承認されることを目指します。

If you ever need to repair a board coated with SCS Parylene, the coating can be removed in several ways, including abrasion, incision and removal, excimer laser removal, heat softening, micro abrasion and plasma etching.
SCSパリレンでコーティングされた回路基板の修理が必要な場合は、研磨、切開・除去、エキシマレーザー除去、マイクロ研磨、プラズマエッチングなど、いくつかの方法で除去することが可能です。

Deprocessing is the process of removing one layer of the die at a time, which may entail wet chemistry, dry plasma etching, and mechanical polishing techniques to reveal the underlying structures.
剥離処理(deprocessing)とは、一度にダイの1層を取り除くプロセスであり、下層の構造を露出させるために、化学薬品溶液、ドライ・プラズマ・エッチング、および機械的研磨手法を使用することがあります。

D Laser Micro Milling for Polymer, Ceramic& Metal| IPG Although conventional chemical or plasma etching techniques yield high-quality results, they are often slow and complicated, and provide limited options for the geometries they can produce.
D Laser Micro MillingforPolymer,Ceramic&Metal|IPG従来の化学エッチングまたはプラズマエッチング手法は高い品質を生みだしますが、ほとんどの場合、時間がかかり複雑で、製造できる形状の選択肢が限定的になります。

As a result of establishing the technology for manufacturing large columnar crystal silicon, Mitsubishi Materials expects that its use will expand in fields such as components for semiconductor manufacturing equipment(components for plasma etching device*1, soaking plate*2, and the like) and sputtering target materials, in which columnar crystal silicon has already been used.
このたびの大型柱状晶シリコンの製造技術の確立により、現在同製品が利用されている分野である半導体製造装置用部材(プラズマエッチング装置※1用部材、均熱板※2等)やスパッタリングターゲット材料等で、その利用拡大が見込まれます。

Performing plasma etch pre-processing, base coating, and metal deposition onto any base substrate.
任意の下地基板上にプラズマエッチング前処理、ベースコーティング、および金属堆積を行います。

Yttrium and aluminum-based coatings PegasusTM series coatings are a family of precision-engineered PVD coatings tailored for Fluorine and Chlorine plasma etch applications.
イットリアおよびアルミナコーティングPegasusTM(ペガサス)シリーズのコーティングは、フッ素系、塩素系のプラズマエッチング向けのPVDコーティング製品シリーズです。

Plasma etch, photoresist ash, wet clean, chemical mechanical planarization, and copper oxide removal prior to barrier deposition can disrupt the chemical structure of surface layers of the low-k film.
プラズマエッチング、フォトレジストアッシング、ウェット洗浄、化学機械研磨(CMP)、バリア成膜前の酸化銅の除去は、Low-k膜の表面層の化学構造を壊す可能性があります。