PLASMA SOURCE 日本語意味 - 日本語訳

Plasma source Type ECR plasma..

プラズマ源種類ECRプラズマ。

Related materials and components(Sputtering target, Plasma source etc.).

各種関連部品（スパッタターゲット、プラズマ源など）。

Plasma Sources Science and Technology.

PlasmaSourcesScienceandTechnologyに掲載されました。

Plasma cutting thickness(mm/min) According to the plasma source.

プラズマ切断厚さ（mm/min）プラズマ源によると。

Comparison of surface roughness by plasma source difference(AFM Observation).

プラズマ源の違いによる表面粗度の比較AFM観察）。

Plasma source assisted deposition technology, pre-cleaning and the auxiliary.

血しょう源は沈殿技術、前処理および補助者を助けました。

Development, manufacturing and sales of plasma sources and plasma systems.

プラズマ源およびプラズマシステムの開発・製造・販売。

BS-80020CPPS Plasma Source for Low-temperature Process Products JEOL Ltd.

BS-80020CPPSプラズマソース製品情報JEOL日本電子株式会社。

SERIO is a plasma etching unit with a high-density ICP plasma source.

SERIOは高密度ICPプラズマソースを搭載した高密度プラズマエッチング装置です。

The NLD plasma source high-density etching system"NLD-8000/800" was developed.

月NLDプラズマ源方式高密度エッチング装置「NLD-8000/800」を開発。

If it equipped with United States HYPERTHERM plasma source the machine can reach threshold.

米国HYPERTHERMプラズマソースを装備している場合、マシンはしきい値に達することができます。

Plasma source assisted deposition technology, pre-cleaning and the auxiliary deposition to the work.

Plasma源は仕事に沈殿技術、前処理および補助沈殿を助けました。

For each brand, there are plain plasma source and high definition plasma source.

各ブランドのために、明白な血しょう源および高い定義血しょう源があります。

The system has five ports that canbe used to integrate magnetrons and/or plasma sources.

このシステムには、マグネトロンおよび/またはプラズマ源を組合わせる為に使用できる5つのポートが備わっています。

The most common plasma source we used is original from Hypertherm and Huayuan.

私達が使用した共通血しょう源はHyperthermおよびHuayuanから元です。

Various decorative and functional thin film coatings can bedeposited by intelligently combining different metal plasma sources and process gases.

さまざまな装飾および機能薄膜のコーティングを、異なる金属プラズマ源およびプロセスガスをインテリジェントに組み合わせることにより堆積することができます。

BS-80011BPG High-power Plasma Source for high-density plasma Products JEOL Ltd.

BS-80011BPG高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃製品情報JEOL日本電子株式会社。

ADT-HC6500 is 10.4 inch display screen CNC Flame/Plasma controller, strongly anti-interference,which can control 2 sets or more of Hyperthern plasma sources without any interference.

ADTHC650010.4インチ表示画面CNC炎/プラズマコントローラーです、強く反干渉を干渉することがなくHyperthernプラズマ源の2セット以上を制御することができます。

Plasma source adopts advanced integrated module control system, it ensures the high precision and stability.

血しょう源は高度の統合されたモジュールの制御システムを採用します、高精度および安定性を保障します。

For each brand, there are plain plasma source and high definition plasma source. At this stage.

各ブランドのために、明白な血しょう源および高い定義血しょう源があります。この段階では、。

Our plasma source enables fast and low-temperature etching of resin layer that was impossible with the existing CCP*2 method.

当社プラズマ源は、従来のCCP*2方式では両立できなかった樹脂層の高速,低ダメージ,低温エッチングが実現できております。

Cnc plasma cutting machine can be equipped with plasma source, flame, drilling for steel pipe or plate.

CNC血しょう打抜き機は血しょう源、炎と装備することができま鋼管か版のためにあきます。

The ion plasma source is energized via tungsten electrodes which operate within fabricated tungsten arc chamber.

プラズマ源は、タングステン電極が製造タングステンアークチャンバの動作範囲によってパワーオンされています。

Offers a full range of vacuum UHV equipment for thin films andsurface technology such as mini electron beam evaporators, plasma sources, sputter sources, effusion cells, hydrogen crackers, MCP microChannel plates.

このようなミニ電子ビーム蒸発器、プラズマ源として薄膜や表面技術のための真空UHV機器のフルレンジを提供しています、ソース、エフュージョンセル、水素クラッカー、MCPマイクロチャンネルプレートをスパッタ。

MMT plasma source is equipped- Realized highly uniform plasma at the surface of substrate and low electron temperature of plasma(~1eV).

MMTプラズマ源搭載基板表面におけるプラズマの高均一化とプラズマの低電子温度化（～1eV）を実現。

And this plasma cutting machine with china famous brand plasma source orUSA imported plasma source, can be used for all kinds of metal cutting. die cutting, etc.

そして陶磁器の有名なブランド血しょう源または米国が付いているこの血しょう打抜き機はいろいろな種類の金属の切断に血しょう源を、使用することができます輸入しました。型抜き、等。

This plasma source is applicable to fluorine gases so that seed layer Ti etching, which requires wet process, can be removed without side etching. Furthermore, SiO2 and SiN etching are available.

また本プラズマ源は、フッ素系のガスにも対応しており、従来Wet処理していたSeed層のTiのエッチングもサイドエッチなく除去でき、さらにSiO2,SiNのエッチングも可能です。

Applications range from a few watts to more than 1000 watts and cover all industries. With the CeraPlasTM element- a piezo based plasma generator in a single component-TDK has developed an innovative new plasma source(ozonizer, ionizer) that is especially suited for the use in low power applications.

応用は数ワットから1000ワット以上の範囲まであり、すべての産業にまたがっています。単一部品の中の圧電ベースのプラズマ発生装置、CeraPlasTM素子によって、TDKは低電力応用での使用に適した画期的な新しいプラズマ源(オゾン発生器、イオン化装置)を開発しました。

The system's high-density plasma source enables the highest silicon and oxide etch rates for all wafer-level packaging applications.

このシステム独自の高密度プラズマ光源が、すべてのウェーハレベルパッケージングアプリケーションに対して、シリコンおよび酸化膜のエッチング率を最大化します。

Automatically adjust and maintain optimal plasma source conditions with the Veeco RF Plasma Source Autotuner, removing the need for manual adjustments during experiments.

VeecoRFプラズマソースオートチューナーは、最適なプラズマソース条件を自動的に調整して維持し、実験中の手動調整の必要性を無くします。