Сe înseamnă SPUTTERING TARGETS în Română - Română Traducere

• pulverizare obiective
• ţinte pulverizare
• ținte de pulverizare
• sputtering obiective

Exemple de utilizare a Sputtering targets în Engleză și traducerile lor în Română

Chromium Sputtering Targets Cr.
Crom pulverizare obiective.

Sputtering Targets:(Diameters).
Ţinte pulverizare:(Diametre).

Used for sputtering targets.
Utilizat pentru țintele de pulverizare.

Sputtering targets for coating.
Ţinte pulverizare de acoperire.

China Chromium Sputtering Targets Cr.
China crom pulverizare obiective.

Sputtering targets for coating.
Spreturi țintă pentru acoperire.

Silicon Dioxide Sputtering Targets.
Dioxid de siliciu sputtering Ținte.

Sputtering Targets For all shapes and many materials.
Pulverizare obiective pentru toate formele şi multe materiale.

Tantalum ingot can be also used for sputtering targets.
Tantal lingou pot fi de asemenea folosite pentru obiective de pulverizare.

High Quality Sputtering Targets Supplier in C….
Înaltă calitate pulverizare obiective de furn….

Some niobium end uses, parts and applications include turbine blades, gas pipelines, automobile components, sputtering targets and capacitors.
Anumite utilizări finale de niobiu, părţi şi aplicaţii includ lamele turbinei, conducte de gaze, componente auto, ţinte pulverizare şi condensatoare.

All size of sputtering targets and arc cathodes can be customized.
Toate dimensiunile de pulverizare obiective şi Arcul catozi pot fi personalizate.

Why choose us CXMET is one of the best China sputtering targets manufacturers and….
De ce ne alegeti pe noi CXMET este unul dintre cele mai bune China sputtering obiective producatori si furnizori, şi suntem, de asemenea.

Sputtering Targets For many materials and all shape: mainly plannar target:.
Pulverizare obiective pentru multe materiale şi toate forma: în principal plannar ţintă.

We have obtained 13 independent intelligrnt property rights about sputtering targets and plasma spraying equipments.
Am obtinut 13 drepturi de proprietate intelligrnt independente despre pulverizare ţinte şi cu plasmă, echipamente de pulverizare..

Tantalum sputtering targets are mostly applied in the semiconductor industry.
Obiective de pulverizare cu tantal sunt aplicate mai ales în industria de semiconductori.

Most of our tungsten fabricated parts and molybdenum fabricated parts are used as ion implantation parts for semiconductor industry and as sputtering targets for the solar industry.
Cele mai multe dintre piesele de tungsten noastre fabricate? i piese de molibden fabricate sunt utilizate ca piese de implantare de ioni pentru industria semiconductorilor? i ca obiective de pulverizare pentru industria solara.

Manufactures sputtering targets and evaporation material for thin filmcoating industry.
Produce obiective de pulverizare și materiale de evaporare pentru industria subțire acoperirii cu film.

Offers an extensive line of advanced materials including aerogels, electrochemical materials, super conductive products, single crystal substrates and parts, engineered ceramics, alumina, tungsten, and sputtering targets.
Oferă o gamă extinsă de materiale avansate, inclusiv aerogels, materiale electrochimice, super produse conductoare, substraturi de cristal unice si piese de ceramică, inginerie, alumină, tungsten, și obiective de pulverizare.

Sputtering targets available in wide range of materials including pure metal and.
Pulverizare obiective disponibile în gama larga de materiale inclusiv pur metal si aliaj aplicate în domeniile de acoperire.

Suppliers of thin film sputtering targets, evaporation materials and ultra high vacuum components.
Furnizorii de obiective de pulverizare, materiale de film subțire de evaporare și componente ultra vid înaintat.

Sputtering targets, Chromium Plate Target, Chrome Target available in wide range of materials including pure metal and alloy applied in coating fields.
Pulverizare obiective, crom placă ţintă, Chrome ţintă disponibile în gama larga de materiale inclusiv pur metal si aliaj aplicate în domeniile de acoperire.

It can also be used for capacitor parts, sputtering targets for optic industry, superconducting material, electrical light material, refrigeration, artificial diamond and alloy addition, etc.
Acesta poate fi de asemenea utilizat pentru piese de condensatoare, ținte de pulverizare pentru industria optic, materiale supraconductoare, materiale electrice de lumina, de refrigerare, de diamant artificial și plus aliaj, etc.

Sputtering targets, Chromium Plate Target, Chrome Target available in wide range of materials including pure metal and alloy applied in coating fields.
Shannxi Zirconiu ţintă Pulverizare ţintă este disponibil in gama larga de materiale inclusiv pur metal si aliaj aplicate în domeniile de acoperire.

Firmetal has gone through style and design, creating sputtering targets inside of a broad assortment of products in lots of types along the lines of Clamp-down, Rotatable Tubes, and bolt-down configurations.
Firmetal a trecut prin stil şi design, crearea de obiective de pulverizare în interiorul un sortiment larg de produse într-o mulţime de tipuri de-a lungul liniilor de clemă-jos, tuburi Rotatable şi configuraţii de şurub-jos. Aplicaţie.

Titanium sputtering targets are mainly used in electronics and information industries, such as integrated circuits, information storage, liquid crystal displays, laser memories, electronic control devices, etc.;
Țintele de sputtering din titan sunt utilizate în principal în industria electronică și a informațiilor, cum ar fi circuite integrate, stocarea informațiilor, afișaje cu cristale lichide, amintiri cu laser, dispozitive electronice de control, etc;

Fusheng Titanium is one of the best China titanium-aluminum sputtering targets manufacturers and suppliers, and also a professional company and factory, welcome to wholesale titanium-aluminum sputtering targets products from us.
Shaanxi daniela Titan Industry Co. Ltd este unul dintre cele mai bune China Titan-aluminiu pulverizare obiective producatori si furnizori, şi, de asemenea, un profesionist companie şi fabrica, bun venit la Titan-aluminiu en-gros produse de ţinte pulverizare la noi.

Supply sputtering targets, high purity evaporation materials and vacuum components for research, development and industry.
Aprovizionare obiective de pulverizare, materiale de evaporare de înaltă puritate și componente de vid pentru cercetare, dezvoltare și industrie.

Our team develops our sputtering targets and arc cathodes continually and improves the following material and coating properties.
Echipa noastră dezvoltă noastre obiective de pulverizare şi catozi arc continuu şi îmbunătăţeşte următoarele materiale şi proprietăţile de acoperire.

Provide sputtering targets, evaporation materials and evaporation sources in standard materials and purities or custom compositions.
Furnizarea de obiective de pulverizare, materiale de evaporare și surse de evaporare în materiale și purități standard sau personalizate compoziții.