What is the translation of " LITHOGRAPHY " in Hebrew?

• ליתוגרפיה
• שיטת הליתוגרפיה

Examples of using Lithography in English and their translations into Hebrew

Paulturner- Mitchell com/ Advertising/ Lithography.
Azila com/ פרסומת/ ליתוגרפיה.

What kind of lithography? portrait Gussejn-clicks*? show me it.
איזה סוג של ליתוגרפיה? דיוקן Gussejn-קליקים*? תראה לי את זה.

Florsheim returned to Chicago and began working in lithography.
קורגן חזר לשיקגו והחל לעבוד בחנות תקליטים.

In 1974 she joined the Burston Lithography Studio in Jerusalem.
בשנת 1974 הצטרפה לסטודיו ברסטון לליתוגרפיה בירושלים.

Due to its size, the map was printed in 26 separate sections, in four colors, by lithography.
בגלל גודלה הודפסה המפה ב-26 חלקים נפרדים, בארבעה צבעים, בשיטת הליתוגרפיה.

As a specific type of replicated graphics, lithography is widely used at present.
כסוג מסוים של גרפיקה משוכפלת, ליתוגרפיה נמצאת בשימוש נרחב כיום.

In fact, lithography is a technique based on the opposition of fat-containing substances and water.
למעשה, ליתוגרפיה היא טכניקה המבוססת על התנגדות של חומרים המכילים שומן ומים.

Before you create a drawing, obtained by lithography, the following actions should be performed.
לפני יצירת ציור, המתקבל על ידי ליתוגרפיה, יש לבצע את הפעולות הבאות.

Fassberg's long career at Intel began in 1983 at the Intel Electronics plant in Jerusalem, as a lithography engineer.
הקריירה הארוכה של פסברג באינטל החלה ב-1983 במפעל אינטל אלקטרוניקה בירושלים, שם היא שימשה כמהנדסת ליתוגרפיות.

A technique called the thin film lithography process allowed engineers to shrink the reader and writer.
שיטה שנקראת תהליך ליתוגרפיה של סרט דק אפשרה למהנדסים לכווץ את ראש הקריאה והכתיבה.

It's likely Pelant used an etching tool to simulate the break and digital lithography for the remodeling.
סביר להניח שפלאנט השתמש בכלי מסוים כדי לדמות שבר ובדפוס ליתוגרפיה עבור האיחוי.

Extreme ultraviolet lithography(EUV) is a form of optical lithography using ultrashort wavelengths(13.5 nm).
ליתוגרפיה אולטרה-סגולה קיצונית(Extreme Ultraviolet Lithography או EUV): בדומה לפוטוליתוגרפיה תוך שימוש באורך גל קצר במיוחד של כ-13 ננומטר.

Cutting a picture on a wooden workpiece- that's what engraving is, lithography does not require any preliminary efforts.
חיתוך תמונה על משטח עץ- זה מה שחריטה היא, ליתוגרפיה אינה דורשת כל מאמץ ראשוני.

During his work he introduced the power of the concepts of"Self-Assembled Monolayers" on solid surfaces and"Constructive Lithography".
במהלך עבודתו, הוא הציג את כוחו של המושגים"עצמית התאספו monolayers" על משטחים מוצקים"ליתוגרפיה בונה".

In her independent work she combined the technique of lithography with other techniques such as screen printing and etching.
ביצירתה העצמאית שילבה את טכניקת הדפס האבן עם טכניקות אחרות כגון הדפס רשת ותצריב.

In the modern world, lithography is, rather, a technique for the formation on a special material of electronic circuits and images with nanometer resolution.
בעולם המודרני, ליתוגרפיה היא, אלא טכניקה להיווצרות על חומר מיוחד של מעגלים אלקטרוניים ותמונות עם רזולוציה ננומטר.

Meanwhile, development of the first Extreme Ultra Violet(EUV) lithography process is under way and should be done by the first half of 2019.
בינתיים, התפתחות הראשון קיצונית אולטרה סגול(EUV) ליתוגרפיה תהליך לדרך, צריך להיעשות על ידי במחצית הראשונה של 2019.

X-ray lithography is a modern technique in which an X-ray beam is passed through a special preform that exhibits the smallest details of the pattern on a special substrate.
רנטגן ליתוגרפיה היא טכניקה מודרנית שבה קרן רנטגן הוא עבר דרך preform מיוחד המציג את הפרטים הקטנים ביותר של דפוס על מצע מיוחד.

In addition, Ricordi's use of new techniques such as lithography and intaglio printing, he was able to reduce costs and increase the print runs.
נוסף לכך, הודות לשימוש שעשה ריקורדי בטכניקות חדשות כגון ליתוגרפיה והדפסת אינטאליו, יכול היה להפחית עלויות ולהגדיל את תפוקת הדפוס.

Projection lithography with the use of laser radiation is widely used for the development of advanced optical technology in order to improve metrological equipment with further introduction into production.
הקרנת ליתוגרפיה עם השימוש בקרינת לייזר נעשה שימוש נרחב בפיתוח של טכנולוגיה אופטית מתקדמת כדי לשפר את הציוד המטרולוגי עם מבוא נוסף לתוך הייצור.

The family returned to Poland in 1946 and Opałka studied lithography at a graphics school before enrolling in the School of Art and Design in Lodz.
בשנת 1946 חזרה משפחתו לפולין, שם למד אופלקה ליתוגרפיה בבית ספר לגרפיקה ואחר כך למד בבית הספר לאמנות ועיצוב בלודז' ובאקדמיה לאמנויות יפות בוורשה.

Optical wavelengths are much shorter than microwaves, making subwavelength optical metamaterials more difficult to realize. Microwave metamaterials can be fabricated from circuit board materials, while lithography techniques must be employed to produce PMs.
אורכי הגל האופטיים קצרים בהרבה משל גלי מיקרוגל, מה שמקשה על מימושם של מטא-חומרים אופטיים בגודל תת-גל.(subwavelength) ניתן לייצר מטא-חומרים למיקרוגל מחומרים של מעגלים מודפסים, בשעה שיש להשתמש בטכניקות ליתוגרפיה כדי לייצר מטא-חומרים פוטוניים.

Masters who repeatedly use the method of lithography in their work, note that lithography is also a relatively cheap method of printing.
מאסטרס אשר שוב ושוב להשתמש בשיטת ליתוגרפיה בעבודתם, לציין כי ליתוגרפיה היא גם שיטה זולה יחסית של הדפסה.

Creating these materials for visible light is still a technological challenge that has traditionally been achieved by lithography, in which metallic patterns are etched onto an inert material, much like an inkjet printer.
ייצור חומרים אלו המתאימים לאור נראה עדיין מהווה אתגר טכנולוגי שמושג באופן רגיל ע"י שיטת הליתוגרפיה, שבה תבניות מתכתיות נחרטות בתוך חומר אינרטי, בדומה למדפסת הזרקת דיו.

First names in seriography, lithography and engraving are“the gold" of the best collections and a perfect gift that you can afford and few expect to receive.
שמות ממדרגה ראשונה בתחום של הדפסי רשת, ליתוגרפיה ותחריטים- זהו"הדובדבן שבקצפת" באוספים הטובים ביותר, וכמו-כן מתנה מושלמת שאתם יכולים להרשות לעצמכם ושמעטים מצפים לקבל.

The rapid increase of temperature at the location of impact can quickly melt a target material. In extreme working conditions, the rapid temperature increase can even lead to evaporation, making an electron beam an excellent tool in heating applications, such as welding. Electron beam technology is used in cable-isolation treatment, in electron lithography of sub-micrometer and nano-dimensional images, in microelectronics for electron-beam curing of color printing[ 1] and for the fabrication and modification of polymers, including liquid-crystal films, among many other applications.
ה עלייה המהירה של ה טמפרטורה במקום ה פגיעה יכולה להמיס חומר מטרה ב מהירות. ב תנאי עבודה קיצוניים, עליית ה טמפרטורה המהירה יכולה אפילו להוביל להתאדות, מה ש הופך את קרן האלקטרונים לכלי מצוין ביישומי חימום, כגון ריתוך. טכנולוגיית קרן אלקטרונים משמשת ל טיפול ב בידוד כבלים, בליטוגרפיה אלקטרונית של תמונות זעירות ב ערכים של תת- מיקרומטר ו תמונות בערכי ננו, במיקרו- אלקטרוניקה, קרן האלקטרונים משמשת ל שיפור של הדפסות ב צבע[ 1] ול ה ייצור ו שינוי של פולימרים, בין יישומים רבים אחרים.

In microelectronics, they use something called lithography to do the same sort of thing, to make the transistors and integrated circuits and build up a structure several times.
במיקרו אלקטרוניקה הם משתמשים במשהו שנקרא ליטוגרפיה כדי לעשות את אותו הדבר, כדי ליצור טרנזיסטורים ומעגלים משולבים ולבנות מבנה כמה פעמים.

Electron-beam lithography systems can be classified according to both beam shape and beam deflection strategy. Older systems used Gaussian-shaped beams and scanned these beams in a raster fashion. Newer systems use shaped beams, which may be deflected to various positions in the writing field(this is also known as vector scan).
ניתן לסווג מערכות ליתוגרפיה של קרן אלקטרונים על פי צורת הקרן ואסטרטגיית הסטת הקורה. מערכות ישנות יותר השתמשו בקרניים גאוסיאניות וסריקת רסטר(הלוך ושוב). מערכות חדשות יותר משתמשות בקרניים מעוצבות, שיכולות להיות מוסטות למיקומים שונים בתחום הכתיבה(זה מכונה גם סריקת וקטור).

Yu explains that he and Yan are exploring“how to use top-down lithography combined with modified bottom-up self-assembling nanostructures to guide the placement of nanostructures on silicon wafer surface.”.
יו מסביר שהוא, יאן בוחנים"כיצד להשתמש מלמעלה למטה ליתוגרפיה בשילוב עם ננו שונה מלמטה למעלה הרכבה עצמית כדי להנחות את המיקום של ננו על פני פרוסות סיליקון.".

Electron-beam lithography systems used in commercial applications are dedicated e-beam writing systems that are very expensive(> US$1M). For research applications, it is very common to convert an electron microscope into an electron beam lithography system using relatively low cost accessories(< US$100K). Such converted systems have produced linewidths of~20 nm since at least 1990, while current dedicated systems have produced linewidths on the order of 10 nm or smaller.
מערכות ליתוגרפיה של קרני אלקטרונים מסחריות הן מערכות כתיבה ייעודיות לקרני אלקטרוניים והינן יקרות מאוד(> מיליון דולר). ליישומי מחקר, מקובל מאוד להמיר מיקרוסקופ אלקטרונים למערכת ליתוגרפיה באמצעות תוספים בעלות נמוכה יחסית(< 100 אלף דולר). מערכות כאלו בעלות רזולוציה קווית של~ 20 ננומטר(מאז 1990), בעוד שהמערכות הייעודיות הנוכחיות בעלות רזולוציה קווית בסדר גודל של 10 ננומטר או פחות.