PATTERN SIZE Meaning in Japanese - translations and usage examples

['pætn saiz]
['pætn saiz]
パターンサイズ

Examples of using Pattern size in English and their translations into Japanese

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Pattern Size.
パターンツール
You can choose beat pattern size in 1 to 8.
ビートのパターンの大きさを1〜8で指定します。
Pattern size and PSA.
パターンサイズとPSA。
More options on material, pattern, size and packing.
材料、パターン、サイズおよびパッキングのより多くの選択。
Pattern Size: 150nm~.
パターンサイズ:150nm~。
More options on material, pattern, size and packing for you;
あなたのための材料、パターン、サイズおよびパッキングのより多くの選択;
Pattern Size: Submicron~a few μm.
パターンサイズ:サブミクロン~数ミクロン。
We can meet any requirement in design, pattern, size and color.
私達は設計、パターン、サイズおよび色の条件を満たしてもいいです。
Pattern Size: 20nm~a few hundred μm.
パターンサイズ:20nm~数百μm。
OEM service. More options on material, pattern, size and packing.
OEMサービス。材料、パターン、サイズおよびパッキングのより多くの選択。
Pattern size is 6 inch by 6 inch.
パターンサイズは6インチ6インチ行います。
Also, dummy wafers(test wafers) are used for measurement of pattern size.
また、ダミーウエハ(テストウェーハ)検査、パターン寸法の測定のために使用されます。
Pattern Size●20nm~several tens of μm.
パターンサイズ●20nm~数十μm。
Also, dummy wafers(test wafers) are used for measurement of pattern size, check.
また、ダミーウェハ(テストウェハ)は、パターンサイズの測定に使用され、チェック。
Max. Pattern size: 8 inch by 8 inch.
最高。パターンサイズ:8インチ8インチ。
OEM service available: material, pattern, size and packing can be customized.
利用できるOEMサービス:材料、パターン、サイズおよびパッキングはカスタマイズすることができます。
Pattern Size a few hundreds of nm~ a few μm.
パターンサイズ数百nm~数μm。
Print out the pattern pages, tape them together at the gray page borders,and cut out pattern size.
パターンページを印刷し、灰色のページ境界でそれらを一緒にテープで貼り付け、そしてパターンサイズを切り取る。
Max pattern size is 6inch by 6inch(catercornered distance).
最高パターンサイズは6inch(catercornered間隔)によって行います6inch。
Please note that the actualmaterials may vary slightly from the colors, pattern sizes, textures and other features shown in the photos.
掲載されている色、柄の大きさや質感などが実際と若干異なることがあります。予めご了承ください。
Pattern Size Diagonal length from 0.1mm to 20mm is adjustable at random.
パターンサイズ0.1mmから20mmまで斜めの長さは無作為に調節可能です。
Japonizer is a very useful site with more than20 backgrounds that allow you to customize the colors and pattern size with easy operations.
以上の背景パターンと、簡単操作で背景の配色や模様の大きさをカスタマイズできる大変便利なサイト。
All of our bridal gowns are special-order,made for you based on the pattern size closest to your measurements and reflecting any changes to the design you have requested.
VeraWangのすべてのブライダルガウンは特別注文です。つまり、お客様の採寸値に最も近いパターンサイズをもとに、お客様がリクエストされるデザインの変更が反映されます。
Stainless Steel Sheet Perforating Our perforated stainless steelsheet comes in a selection of hole shapes, pattern sizes, gauges and grades.
ステンレス鋼板の貫通化私たちの有孔ステンレス鋼板孔の形状の選択に来る,パターンサイズ,ゲージとグレード。
Even if you change device generations and pattern size, by increasing the data transmission rate in accordance with the numerical aperture, it is possible to maintain the throughput of 10wph at least.
開口数に応じてデータ伝送速度を向上するとデバイス世代やパターンサイズが変わっても最低10wphのスループットを維持できる。
Stainless Steel Coil/Sheet Perforating Our perforated stainless steelsteel coil/sheet comes in a selection of holeshapes, pattern sizes, gauges and grades.
ステンレス鋼コイル/シート穿孔私たちの穿孔ステンレス鋼スチールコイル/シートholeshapesの選択に来ます,パターンサイズ,ゲージとグレード。
First, the shape with wider width andhigher height than the existing conical pattern size can be processed in micropattern PSS, which improves external reflection efficiency of optical output.(Refer to Data 1).
ひとつは、マイクロパターンPSSにおいて、従来の円錐パターンサイズより幅、高さともに大きな形状加工を実現したことである。(Data1参照)。
First, the shape with wider width andhigher height than the existing conical pattern size can be processed in micropattern PSS, which improves external reflection efficiency of optical output.
ひとつは、マイクロパターンPSSにおいて、従来の円錐パターンサイズより幅、高さともに大きな形状加工を実現したことである。(Data1参照)これは、光出力の外部反射効率を向上させることに効果がある。
Although, the literature and data from manufactures verify that the smaller pattern size produces higher pattern region ratio to substrate surface, which leads to efficient emission,the present standard pattern size used is 2 to 3um.
論文や各メーカーのデータでは、パターンサイズが小さいほど基板総面積に対するパターン領域の比率が高くなり、発光効率が高くなることが実証されているが、現在の業界標準的なパターンサイズは、2~3umである。
At present, photoresist mask is formed on the flat sapphire substrate andICP dry etching is used for PSS processing, and pattern size, shape design and accuracy of the mask,pattern aspect ratio(ratio between height and width), substrate surface uniformity and repeatability between the substrates are important for forming the shape.
PSSの加工は、現在平坦なサファイア基板上にフォトレジストマスクを形成し、ICPドライエッチングにより行われている。加工形状のkeyとなるのはパターンのサイズ、マスクの形状設計と精度、パターンのアスペクト比(縦と横幅の比)と基板面全体での均一性及び基板間の再現性である。
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