What is the translation of " MAGNETRON SPUTTERING " in Russian?

• магнетронное распыление
• магнетронное напыление
• магнетронного распыления

Examples of using Magnetron sputtering in English and their translations into Russian

Example of modernization of Machine for Magnetron Sputtering UVN-71P3.
Пример модернизации установки УВН- 71П3 для магнетронного напыления.

Magnetron sputtering of super-hard nanocomposite nc-TiC/a-C coatings(Ukraine) 4.8.
Магнетронное нанесение сверхтвердых нанокомпозитных nc- TiC/ a- C покрытий.

The key component for magnetron sputtering is the magnetron.
Основным компонентом процесса магнетронного напыления является магнетрон.

Magnetron sputtering of metal coatings with controlled thickness in the range from 1 to 1000 nm.
Магнетронное напыление металлических покрытий с контролем толщины в диапазоне от 1 до 1000 нм.

For a while it was a combination of both technologies, and then we completely passed to the magnetron sputtering.
Некоторое время было сочетание обеих технологий, а затем полностью перешли на технологию магнетронного распыления.

Keywords: surgical meshes; silver coating; magnetron sputtering; antibacterial action; bacteriostaticity.
Ключевые слова: хирургические сетки; серебряное покрытие; магнетронное распыление; антибактериальное действие; бактериостатичность.

Keywords: magnetron sputtering, metal atoms, coating synthesis, high-energy ions, substrate, atoms mixing, adhesion.
Ключевые слова: магнетронное распыление, атомы металла, синтез покрытий, высокоэнергетические ионы, перемешивание, адгезия.

Deposition rates can be increased 10 to 100 times with a single electron beam evaporation process compared to magnetron sputtering.
Процесс электронно-лучевого напыления позволяет увеличить скорость осаждения от 10 до 100 раз по сравнению с магнетронным напылением.

The use of ion-beam and magnetron sputtering allows to conduct reactive and non-reactive processes in any sequence;
Применение ионно- лучевого и магнетронного распыления позволяет проводить реактивные и нереактивные процессы в любой последовательности;

The structure and the properties of the porous films obtained by self-organization during magnetron sputtering the composite target are investigated.
Исследованы структура и свойства пористых пленок, полученных в результате самоорганизации при магнетронном распылении составной мишени.

With magnetron sputtering, a magnetic field-enhanced plasma discharge is generated in a medium vacuum and a defined gas atmosphere.
При магнетронном напылении в среднем вакууме и в среде определенного газа создается разряд плазмы, усиленный магнитным полем.

The book contains a detailed description of magnetron sputtering systems and plasma chemical etching systems for thin films.
Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок.

For production of planar nanostructure of a nanoelectronic transducer the standard photolithography technology, various photoresist, jet ionic etching and a magnetron sputtering was used.
Для создания планарной наноструктуры наноэлектронного трансдьюсера использовалась технология стандартной фотолитографии, различных фоторезистов и реактивного ионного травления и магнетронного напыления.

Izovac is glad to offer the"Atis"- family of vacuum equipment with magnetron sputtering and ion-beam pre- cleaning developed specially for microelectronics applications.
Компания Изовак предлагает линейку вакуумных напылительных установок" Atis" с магнетронным распылением и предварительной ионно- лучевой очисткой.

Magnetron sputtering of metal and silicide targets; ion-beam cleaning and etching of layers; dry photoresist removal; depositing protective dielectric coatings above the resistive layer; depositing/etching to a preset thickness with resistance control.
Магнетронное распыление металлических и силицидных мишеней; ионная очистка и травление слоев; сухое снятие фоторезиста; нанесение защитных диэлектрических покрытий поверх резистивного слоя; напыление/ травление заданного номинала по свидетелю сопротивления.

Laboratory of vacuum technologies commercializes high-productive machines NIKA for magnetron sputtering of crockery, cutlery, accessories.
Лаборатория вакуумных технологий выпускает серию высокопроизводительных магнетронных установок НИКА для напыления посуды, столовых приборов, фурнитуры.

The book contains a detailed description of magnetron sputtering systems, plasma chemical etching systems for thin film and the technological features of their use.
Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок, плазмохимических установок для травления тонких пленок и технологических особенностей их использования.

It is a detailed description of the physical processes occurring during reactive magnetron sputtering and its technological features.
Представлено подробное описание физических процессов, протекающих во время реактивного магнетронного нанесения, и следующих из них технологических особенностей магнетронного нанесения..

It is hoped that the magnetron sputtering technology opportunities are not yet fully exhausted, but one has to admit that today, some stagnation in obtaining of new results in multilayer X-ray optics takes place.
Можно надеяться, что возможности технологии магнетронного распыления еще до конца не исчерпаны, но нужно признать, что сегодня наблюдается некоторый застой в получении новых результатов в многослойной рентгеновской оптике.

Methods were developed for surface modification of track membranes by low-temperature plasma, magnetron sputtering of titanium dioxide, and chemical adsorption of nanoparticles of chitosan and silver 14.
Разработаны методы модификации поверхности трековых мембран низкотемпературной плазмой, магнетронным напылением диоксида титана и химической направленной адсорбции наночастиц хитозана и серебра 14.

Ion-beam cleaning of substrates; magnetron sputtering of metal targets; magnetron sputtering of magnetic materials(nickel); thermal evaporation in magnetron discharge with a high speed of deposition up to….
Ионная очистка подложек; магнетронное распыление металлических мишеней; магнетронное распыление магнитных материалов( никель); термовакуумное испарение в магнетронном разряде с высокой скоростью нанесения до 1 мкм/ мин на вращающуюся карусель, до 60 мкм полной толщины….

Although Bühler Leybold Optics is active in developing all different fields of coating technologies, for ex- ample PECVD or evaporation methods, magnetron sputtering is still the technology of choice in large area coating.
Бюлер Leybold Optics активно развивает всевозможные технологии нанесения покрытий, в том числе метод испарения и плазменно- химического осаждения из газовой фазы в вакууме( PECVD), однако, для нанесения покрытий большой площади наилучшим методом остается магнетронное распыление.

The process used at UNION GLASHÜTTE, known as magnetron sputtering, is a combination of evaporation process and sputtering cathode sputtering..
Используемый на мануфактуре UNION GLASHÜTTE, известен как магнетронное распыление и представляет собой сочетание процесса испарения и распыления катодное распыление..

We offer the complete spectrum of vacuum thin-film deposition technologies, from evaporation, sputtering, plasma-enhanced chemical vapor deposition(PECVD) and enhancements of the technologies such as plasma-assisted reactive magnetron sputtering PARMS.
Мы предлагаем полный спектр технологий высоковакуумного нанесения тонкопленочных покрытий, таких как испарение, в том числе электронно-лучевое, усиленное плазмой химическое осаждение из газовой фазы( PECVD), а также усовершенствованные технологии, такие как ассистированное плазмой реактивное магнетронное распыление PARMS.

Depending on their purpose, machines may be retrofitted with process devices: magnetron sputtering systems, ion beam sources, heaters, radio-frequency plasma generators, as well as modern units, vacuum gauges and sensors.
В зависимости от задач возможна доукомплектация установок технологическими устройствами- магнетронными распылительными системами, ионными источниками, нагревателями, радиочастотными генераторами плазмы, а также современными блоками, вакуумметрами и датчиками.

Although all vacuum ion-plasma technologies are based on materials sputtering techniques aimed for production of ionized plasma, those of principal importance are cathode sputtering, high frequency sputtering, magnetron sputtering, electric beam sputtering and electric arc sputtering..
В основе всех вакуумных ионно- плазменных технологий лежат методы распыления материалов с целью получения ионизованной плазмы, важнейшими из которых являются катодное распыление, высокочастотное распыление, магнетронное распыление, электроннолучевое распыление и электродуговое распыление..

Depending on their purpose, machines may be retrofitted with process devices: magnetron sputtering systems, ion beam sources, heaters, radio-frequency plasma generators, as well as modern units, vacuum gauges and sensors.
В зависимости от технологической задачи в вакуумные машины могут быть установлены: магнетроны, источники ионов, термические испарители, низко- и высокотемпературные нагреватели, радиочастотные генетраторы плазмы с согласующими устройствами, электронно-лучевое оборудование.

Purpose: deposition of resistive layers, ion-beam cleaning and etching Processes: magnetron sputtering of metal and silicide targets; deposition of composite layers by co-sputtering from two targets; ion-beam cleaning and etching of layers; depositing protective dielectric coatings above the resistive layer; depositing/etching to a preset thickness with resistance control.
Назначение: напыление резистивных слоев, ионная очистка и травление Технологии: магнетронное распыление металлических и силицидных мишеней; нанесение слоев сложного состава сонапылением из двух мишеней; ионная очистка и травление слоев; нанесение защитных диэлектрических покрытий поверх резистивного слоя; напыление/ травление заданного номинала по свидетелю сопротивления.

Annotation: In this article were studied electrical properties of the titanium dioxide films, which were obtained by magnetron sputtering cathode of titanium, stoichiometric(TiO 2) and unstoichiometric(TiO x) compositions used for creating the elements of non-volatile memristor's memory.
Аннотация: Исследованы электрофизические свойства пленок диоксида титана, полученных магнетронным распылением мишени из титана стехиометричного( TiO 2) и нестехиометричеого( TiO x) составов, используемых для создания мемристорных элементов энергонезависимой памяти.

Ion-beam cleaning of substrates, including low-energy one(ion energy up to 40 eV); magnetron sputtering of an adhesive underlayer(Cr, Ta, Ti); reduction treatment in hydrogen plasma; dry removal of photoresist by oxygen or hydrogen plasma etching; deposited layer thickness monitoring by resistance, a quartz thickness gauge or by time; PVD of conductive and resistive layers by thermal evaporation.
Технологии: ионная очистка подложек, в том числе низкоэнергетическая( энергия ионов до 40 эВ); магнетронное напыление подслоя с высокой адгезией; восстановительная обработка в водородной плазме; сухое снятие фоторезиста травлением в кислородной или водородной плазме; контроль толщины наносимого слоя по свидетелю сопротивления, кварцевому измерителю толщины либо по времени; термическое напыление проводящих и резистивных слоев.