SPUTTERING TARGET Meaning in Thai - translations and usage examples

• เป้าหมายสปัตเตอร์
• sputteringเป้าหมาย

Examples of using Sputtering target in English and their translations into Thai

Metal Sputtering Target.
โลหะSputteringเป้าหมาย

Used for making molybdenum sputtering target.
ใช้สำหรับการทำเป้าหมายการปะทุโมลิบดีนัม

Types of sputtering target in CXMET.
ชนิดของเป้าหมายสปัตเตอร์ในCXMET

Product Name: molybdenum rotatable sputtering target.
ชื่อสินค้าโมลิบดีนัมrotorablesputteringtarget

Metal Pd Sputtering Target.
โลหะPdSputteringเป้าหมาย

Customized by drawing Si rotary metal sputtering target.
ที่กำหนดเองโดยการวาดเป้าหมายสปัตเตอร์โลหะหมุนศรี

Si Metal Sputtering Target.
ศรีโลหะSputteringเป้าหมาย

Optical communication industry Titanium Oxide sputtering target.
อุตสาหกรรมการสื่อสารOpticalไทเทเนียมออกไซด์เป้าหมายสปัตเตอร์

Chromium Cr Sputtering Target.
โครเมี่ยม CrSputteringเป้าหมาย

To product tungsten spiral for vacuum evaporation and making tungsten sputtering target.
เพื่อเกลียวทังสเตนผลิตภัณฑ์สำหรับการระเหยสูญญากาศและทำให้เป้าหมายสปัตเตอร์ทังสเตน

Nbox Rotating Sputtering Target.
NboxหมุนSputteringเป้าหมาย

Next: The flat panel Display coating industry brass target copper sputtering target.
ต่อไป: หน้าจอแสดงผลทองเหลืองอุตสาหกรรมเคลือบแบนทองแดงกำหนดเป้าหมายสปัตเตอร์เป้าหมาย

High pure metal sputtering target.
การสปัตเตอร์โลหะสูงบริสุทธิ์

Believe ALLUTER sputtering target will be your first choice of sputtering target supplier!
เชื่อALLUTERเป้าหมายสปัตเตอร์จะเป็นตัวเลือกแรกของผู้จัดจำหน่ายสปัตเตอร์เป้าหมาย!

Aluminum Chromium Sputtering Target.
อลูมิเนียมโครเมียมSputteringเป้าหมาย

We pack niobium sputtering target and such niobium targets in plywood case and send them by ocean or air.
เราแพ็คเป้าหมายสปัตเตอร์ไนโอเบียมและเป้าหมายไนโอเบียมเช่นในกรณีไม้อัดและส่งพวกเขาที่ริมทะเลหรืออากาศ

Photos for zirconium sputtering target.
รูปภาพสำหรับเป้าหมายสปัตเตอร์เซอร์โคเนียม

High purity sputtering target, arc cathode can be customed in any shape and size with customers' detailed requests.
เราผลิตไทเทเนียมบริสุทธิ์สูงพ่นเป้าหมายไทเทเนียมแคโทดส่วนโค้งและรูปร่างและขนาดสามารถcustomedตามร้องขอโดยละเอียดของลูกค้า

Silicon Oxide Sputtering Target.
ซิลิกอนออกไซด์Sputteringเป้าหมาย

It can be used as components of electron tube, heaters of high-temperature furnaces, thermocouple retainers and sputtering target.
มันสามารถนำมาใช้เป็นส่วนประกอบของหลอดอิเล็กตรอนของเครื่องทำความร้อนเตาเผาอุณหภูมิสูงและทนยึดเป้าหมายสปัตเตอร์

Tantalum Niobium Alloy Sputtering Target Manufacturers.
โลหะผสมไนโอเบียมแทนทาลัมจีนสปัตเตอร์เป้าหมายผู้ผลิตผู้จำหน่ายโรงงานบริษัท

For niobium sputtering target, we devote to offering our customers with high purities, fine and uniform grain size, and early target life size stability.
สำหรับไนโอเบียมเป้าหมายสปัตเตอร์เราอุทิศที่จะนำเสนอลูกค้าของเรามีpuritiesสูงขนาดเม็ดละเอียดและสม่ำเสมอและชีวิตเป้าหมายต้นขนาดความมั่นคง

Common size for zirconium sputtering target mainly processed as.
ขนาดทั่วไปสำหรับเซอร์โคเนียมสปัตเตอร์เป้าหมายที่ประมวลผลเป็นส่วนใหญ่

Sputtering target supplier, titanium niobium target, Ti-Nb target, arc target, we rely on our extensive know-how in metallurgy and production technologies.
พ่นเป้าหมายจำหน่ายไทเทเนียมไนโอเบียมเป้าหมายเป้าหมายตี้ Nbเป้าหมายอาร์คเราอาศัยความรู้ของเราในโลหะและผลิตเทคโนโลยี

Customized by drawing Si rotary metal sputtering target- China Alluter Technology（Shenzhen.
ที่กำหนดเองโดยการวาดเป้าหมายสปัตเตอร์โลหะหมุนศรี-จีนAlluterเทคโนโลยีเซินเจิ้น

Molybdenum sheet is widely used in reflection shield, cover plate applied in the sapphire growth furnace, reflection shield heating tape, connecting pieces applied in vacuum furnace, sputtering target applied in plasma coating film.
โมลิบดีนัมฟอยล์แถบถูกนำมาใช้กันอย่างแพร่หลายในการสะท้อนโล่แผ่นฝานำไปใช้ในเตาเติบโตไพลินเทปสะท้อนความร้อนโล่การเชื่อมต่อชิ้นส่วนที่ใช้ในเตาสูญญากาศเป้าหมายสปัตเตอร์ที่ใช้ในฟิล์มเคลือบพลาสม่า

High purty HIP rolled pure chromium sputtering target for coating film- China Alluter Technology（Shenzhen.
HIPpurtyสูงรีดโครเมียมบริสุทธิ์sputteringเป้าหมายสำหรับการใช้สารเคลือบผิว-จีนAlluterเทคโนโลยีเซินเจิ้น

My factory have a serious of equipment to process forgings, sputtering target is the mainly one.
โรงงานของฉันมีอุปกรณ์ที่สำคัญในการประมวลผลการตีขึ้นรูปโดยการสปัตเตอร์เป้าหมายคือส่วนใหญ่

We produce high purity titanium sputtering target, titanium arc cathode, and shape and size can be customed according to customers' detailed requests.
เราผลิตไทเทเนียมบริสุทธิ์สูงพ่นเป้าหมายไทเทเนียมแคโทดส่วนโค้งและรูปร่างและขนาดสามารถcustomedตามร้องขอโดยละเอียดของลูกค้า

Tantalum tube is also normally used as tantalum tubular sputtering target for semiconductor industry.
หลอดแทนทาลัมนอกจากนี้ยังใช้เป็นปกติแทนทาลัมท่อเป้าหมายสปัตเตอร์สำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์