Gia sputtering er forkortelsen for ubalanserte magnetron sputtering.
UBM sputtering is the abbreviation of unbalanced magnetron sputtering.
Fordelene med vår sylindrisk Titanium(Ti) sputtering mål.
The advantages of our cylindrical Titanium(Ti) sputtering target.
I 2014 globale semiconductor sputtering mot salg av $1 milliard 160 millioner.
In 2014 the global semiconductor sputtering target sales of $1 billion 160 million.
Neste: tilpasses ved å trekke Zrconium magne sputtering belegg mål.
Next: customized by drawing Zrconium magnetron sputtering coating target.
Sputtering avsetning kan deles inn i likestrøm magnetronforstøvning avsetning og radiofrekvens magnetronforstøvning deponering.
Magnetron sputtering deposition can be divided into direct current magnetron sputtering deposition and radio frequency magnetron sputtering deposition.
Ltd er en av de beste Kina sputtering mål/katode produsentene og leverandører, og også et profesjonelt firma og fabrikken, Velkommen til engros sputtering mål/katode fra oss.
Ltd is one of the best China sputtering targets/cathodes manufacturers and suppliers, and also a professional company and factory, welcome to wholesale sputtering targets/cathodes products from us.
Norsk
Dansk
Suomi
Svenska
عربى
Български
বাংলা
Český
Deutsch
Ελληνικά
Español
Français
עִברִית
हिंदी
Hrvatski
Magyar
Bahasa indonesia
Italiano
日本語
Қазақ
한국어
മലയാളം
मराठी
Bahasa malay
Nederlands
Polski
Português
Română
Русский
Slovenský
Slovenski
Српски
தமிழ்
తెలుగు
ไทย
Tagalog
Turkce
Українська
اردو
Tiếng việt
中文