LOW DIELECTRIC CONSTANT 日本語意味 - 日本語訳

Low dielectric constant polyimides.

(2)低誘電率ポリイミド。

For superior high-frequency property: low dielectric constant.

高周波特性が良い（誘電率が低い）。

Low dielectric constant PBI Advanced Materials Co., Ltd.

低誘電率株式会社PBIアドバンストマテリアルズ。

This PTFE teflon oil seal has low dielectric constant.

このPTFEのテフロンオイルシールに低い比誘電率があります。

Features a low dielectric constant and a low moisture absorption rate.

低誘電率、低給水率が特徴です。

A compact light-weighted polyimide foam with heat resistance and a low dielectric constant.

軽量、耐熱、低誘電率のポリイミド発泡成形体。

High Tg, low dielectric constant materials, high damping materials, heat dissipation materials, etc.

高Tg、低誘電率材、高弾性材、放熱材など。

PBI Advanced Materials develops the materials showing low dielectric constant.

PBIアドバンストマテリアルズでは、低誘電率材料の開発を行っております。

Low dielectric constant over a wide frequency range and excellent insulation.

誘電率、誘電正接が全周波数にわたって低く一定で、きわめてすぐれた絶縁性を示します。

Beryllia has a high dielectric strength and a low dielectric constant.

ベリリアには高い絶縁耐力と、低い比誘電率があります。

High insulation performance: low dielectric constant, electric properties as good as those of alumina.

高絶縁性：誘電率が低くアルミナ並みの優れた電気特性。

High frequency,it is the best choice for measuring solid medium and low dielectric constant.

の高周波、それは固体媒体および低い比誘電率を測定するための最もよい選択です。

FEP is chemically inert and has a low dielectric constant over a wide frequency range.

しかし、FEPは、化学的に不活性であり、広い周波数範囲にわたって低い誘電率を有する。

Low dielectric constant compared to inorganic piezoelectric bodies makes it suitable for sensors.

無機圧電体に比べ、比誘電率が低いので、センサーへの応用が可能です。

Heat resistance Wear resistance Anti-static/Conductivity Low dielectric constant High thermal conductivity.

高耐熱性耐摩耗性帯電防止／導電性低誘電率高熱伝導率。

Due to this low dielectric constant, the PCB is ideal for applications that utilize high frequencies.

これによって、低誘電率に、PCBは、高い周波数を利用するアプリケーションに最適です。

Teflon FEP dielectric(insulation) offers chemically inert and very low dielectric constant over a wide frequency range.

FEP誘電体（絶縁体）は、広い周波数範囲にわたって化学的に不活性で非常に低い誘電率を提供します。

Very Low Dielectric Constant(Dk)- We engineers often find something that works and then stick with it.

比誘電率（Dk）が非常に低い-しばしば、私たちエンジニアは、何かがうまく行くと、それをずっと使い続けます。

In contrast to Eestor technology, which has a very basic low dielectric constant of 18,000 against our latest milestone of 16 million.

万の私たちの最新のマイルストーンに対して18,000の非常に基本的な低誘電定数を有するエスター技術とは対照的に。

Tungsten copper heat sinks are developed with unique features such as high thermal conductivity,low thermal expansion rate, and low dielectric constant.

タングステン銅ヒートシンクは、高熱伝導率、低熱膨張率、低誘電率のようなユニークな特徴を使用して開発されています。

Excellent RF performance, due to low dielectric constant of glass and highly conductive via materials.

ガラスの比誘電率が低く、ビア材料の導電性が高いため、非常に優れたRF性能を発揮します。

Logic relay control is used for signal source switching to implement signal paths that are as short as possible, and components are assembled on high-quality Teflon(glass fluorocarbon resin)motherboards that feature a low dielectric constant and minimum loss.

例えば、信号源の切り替えに使用されるロジックリレー制御は信号経路を可能な限り短縮するように選ばれ、コンポーネントは低い誘電率と最小限の損失を特徴とする高性能テフロン(ガラスフッ素樹脂)マザーボード上で組み立てられています。

Fluon®ETFE is an excellent insulator andhas a high break-down voltage with thin film. A low dielectric constant dielectric tangent would be evident over a wide range of frequencies.

優れた絶縁性があり、薄い被膜で高い絶縁強度を示し、また広い周波数領域で低い誘電率、誘電正接を示します。

AIN is a material with high electric insulation and low dielectric constant, making it possible to form various metallized thin films on the surface, for electric circuits, chip mounting, and wire bonding.

電気絶縁性が高く誘電率が低い材料で、表面に電気回路、チップマウント、ワイヤボンディング用の各種メタライズ薄膜を形成することが可能です。

That is, the distance between the resonators can be increased,and a substance having a relatively low dielectric constant can be used as a medium between the resonators.

すなわち、共振器間の距離を長くすることができたり、共振器間の媒質として比較的誘電率の低い物質を用いることができる。

For example, applications of compounds consistingprimarily of organic materials to films having a low dielectric constant of electronic devices are being attempted and, for this purpose, control of the dielectric constant is indispensable.

例えば、電子デバイスの低誘電率膜へ有機物を主成分とする化合物の利用が試みられていて、これでは誘電率の制御が必要である。

On the contrary, the new material that ZEON has developed is not porous, but high-density film material created by a CVD(Chemical Vapor Deposition) process using a fluorocarbon compound. For that reason,it is possible to create low dielectric constant film featuring excellent mechanical strength with close adhesion.

一方、当社が開発した新材料はこれらのポーラス材料ではなく、フロロカーボン系化合物を用いたCVD(化学的気相成長)プロセスによって生成する高密度膜材料であることから、機械的強度及び膜密着性に優れた低誘電率膜の生成が可能である。

Fluon®ETFE is an excellent insulator exhibitinghigh dielectric strength as a thin film. A low dielectric constant and dielectric tangent are demonstrated over a wide range of frequencies.

優れた絶縁性があり、薄い被膜で高い絶縁強度を示し、また広い周波数領域で低い誘電率、誘電正接を示します。

It has excellent electric insulation properies, and exhibits higher dielectric strength even as a thin film.It has a lower dielectric constant and dielectric loss tangent over a wide frequency range.

優れた絶縁性があり、薄い被膜で高い絶縁強度を示し、また広い周波数領域で低い誘電率、誘電正接を示します。