Examples of using Разпрашаване in Bulgarian and their translations into English
{-}
-
Colloquial
-
Official
-
Medicine
-
Ecclesiastic
-
Ecclesiastic
-
Computer
Токът е разпрашаване.
Електрически разпрашаване.
Electrical sputtering.Разпрашаване[Въздъхва] И има това.
Sputtering[sighs] And there's that.Висока степен на разпрашаване.
След разпрашаване, филмът обикновено се лекува чрез топлинна обработка.
After sputtering, the film is generally treated by heat treatment.Мек и пигментиран без никакво разпрашаване.
Осигурява висока скорост на разпрашаване на лекарственото вещество.
Глюкоза, течна, изсушена чрез разпрашаване Натрий.
Glucose liquid spray dried Sodium.Филм от тантал е депозиран от разпрашаване последвано от слой от злато чрез изпаряване.
A film of Tantalum was deposited by sputtering followed by a layer of gold by evaporation.Високо purty HIP валцувани чист хром разпрашаване,….
High purty HIP rolled pure chromium sputtering….Общият размер на целта за циркониево разпрашаване е основно обработен като.
Сухите издънки на жълтурчета могат да бъдат натрошени в прах и да се използват за разпрашаване на храсти.
Solar PV иОтопление промишленост 99.999% мишена за разпрашаване мишена Алуминиеви.
Solar PV andHeating industry 99.999% sputtering target Aluminium target.Впоследствие американското правителство подобрявасвоите методи за унищожаване, като добавя химическо разлагане, разпрашаване и др.
The US government subsequentlyimproved its shredding techniques, by adding pulverizing, pulping, and chemical decomposition.”.Добра компактност> 99%(не porasity)8020wt% цел никел хром разпрашаване- Китай Alluter технологии(Shenzhen).
Good compactness>99%(no porasity)8020wt% nickel chromium sputtering target- China Alluter Technology（Shenzhen.Отлични резултати от процеса при високопроизводителното импулсно магнетронно разпрашаване(HIPIMS). Различни мощностни класове.
Excellent process results for high-power impulse magnetron sputtering(HIPIMS). Different power classes.При ВИГ-заваряване оксида се отстранява чрез катодно разпрашаване, като за целта заваряването се извършва с променлив ток.
In TIG welding oxide is removed by cathode sputtering by simply welding is done with alternating current.Като ново поколение постояннотокови генератори TruPlasma DC серия 3000(G2)са подходящи за редица постояннотокови процеси на разпрашаване.
As a new generation of DC generators, the TruPlasma DC Series 3000(G2)is suitable for a variety of DC sputtering processes.Специфичната атмосфера в солната стая се постига чрез разпрашаване на фини частици от 1-5 микрона на сол с чистота 99,95%.
The specific atmosphere in the salt room is achieved by dusting fine particles of 1- 5 micron of salt with a purity of 99.95%.Някои процеси, като разпрашаване, изискват само малки количества газ, правейки използването например на един цилиндър аргон по-икономично.
Some processes, such as sputtering, require only small volumes of gas, making single-cylinder usage of argon, for example, more economical.Целите трябва да се обработват с пластмасови ръкавици, за да се избегне замърсяване на целевата повърхност ипоследващи проблеми по време на разпрашаване.
Targets must be handled with plastic gloves to avoid contamination ofthe target surface and subsequent problems during sputtering.Специфичната атмосфера в солната стая се постига чрез разпрашаване на фини частици от 1-5 микрона на така наречената фармацевтична сол(NaCl), която е с чистота 99,95%.
The specific atmosphere in the salt room is achieved by dusting fine particles of 1- 5 micron of salt with a purity of 99.95%.Реактивно разпрашаване на критични материали Импулсните генератори TruPlasma DC серия 4000 са разработени специално за реактивно разпрашаване на критични материали.
TruPlasma DC Series 4000 pulsed generators have been specially developed for the reactive sputtering of heavy materials.В допълнение, увеличаването на плътността и силата на мишената позволява на мишената по-добре да издържа на термичните напрежения по време на разпрашаване.
In addition, increasing the density and strength of the target allows the target to better withstand the thermal stresses during sputtering.Ако са достатъчно много общите вибрации могат да причинят акустично разпрашаване, което би предизвикало вулканични изригвания.
If there were enough of them, uh… compound vibrations could potentially cause massive acoustic fluidization, which would trigger volcanic eruptions… Which did trigger a volcanic eruption.Аргонът се използва за осигуряване на инертна среда за разпрашаване на метали(когато дори азотът е прекалено реактивен и води до образуване на метални нитриди).
Argon is used to provide an inert environment for sputter deposition of metals(where even nitrogen is too reactive and leads to the formation of metal nitrides).Захранванията с ток за технологичните процеси на TruPlasma Bipolar серия 4000(G2)са подходящи за сложни процеси с плазмена технология, като например реактивно разпрашаване, PVD и PECVD.
The process power supplies of the TruPlasma Bipolar Series 4000(G2)are extremely well-suited to demanding plasma processes such as reactive sputtering, PVD and PECVD.Генераторите TruPlasma Highpulse серия 4000 могат да се използват като алтернатива на постояннотоковите генератори за разпрашаване в съществуващи магнетронни системи, без да трябва да се извършват модификации.
The generators in the TruPlasma Highpulse Series 4000 can be used as an alternative to DC sputter generators in current magnetron systems without any modifications.С течение на времето бетона проявява своите недостатъци, които се изразяват в:- Разпрашаване на повърхностния слой в следствие на механично триене, водещо до замърсена продукция, прашни стоки, нездравословни условия на работа за работниците;
Dusting up the surface layer as a result of mechanical friction that results in polluted production, dusty commodities, unhealthy occupational conditions for the workers;Генераторите TruPlasma Highpulse серия 4000 предлагат ненадмината гъвкавост за изследователски ипромишлени процеси и позволяват разпрашаване без образуване на капки и минимални повърхностни дефекти.
The generators in the TruPlasma Highpulse Series 4000 offer unparalleled flexibility for research and industry processes andenable droplet-free sputtering and minimal surface defects.
