What is the translation of " SPUTTERING " in Bulgarian?

• разпрашване
• разпрашаване
• нанасяне на покритие прахово
• разпръскващи
• sputtering
• разпръскване
• разпрашващ
• разпръскването
• покритие
• на разпрашването

Examples of using Sputtering in English and their translations into Bulgarian

Balloon sputtering.
Балон разпрашване.

Sputtering[sighs] And there's that.
Разпрашаване[Въздъхва] И има това.

Engine sputtering.
Engine разпрашване.

Sputtering Target Manufacturer- Alluter.
Sputtering Целна Производител- Alluter.

The current is sputtering.
Токът е разпрашаване.

Metal Sputtering Targets.
Метални разпръскващи цели.

IPS- is a steel ion sputtering.
IPS- това е йонно покритие на стоманата.

Copper Sputtering Target Cu.
Мед разпрашване целеви Cu.

High purty HIP rolled pure chromium sputtering….
Висок purty HIP валани чист хром sputtering….

Grunting, sputtering[coughing].
Сумтене, разпрашване[Кашлица].

Sputtering metal, alloy, ceramic, boride etc….
Разпрашване метал, сплав, керамика, борен и т. н….

Electrical sputtering.
Електрически разпрашаване.

Niobium Sputtering Coating Target/ Sheet/ Plate.
Niobium Sputtering покритие цел/ лист/ плоча.

Rotary Titanium Sputtering Target.
Ротари Титан sputtering целни.

Sputtering Targets For all shapes and many materials.
Разпрашване цели За всички форми и много материали.

Used for sputtering targets.
Използва се за разпръскване на цели.

This kind of plated material is called titanium sputtering target.
Този вид покрит материал се нарича титанов разпрашващ мишена.

What is sputtering technology?
Какво е разпрашване технология?

Hot sale 99.95% molybdenum sputtering target.
Гореща продажба 99.95% молибден, разпрашващ мишена.

Magnetron sputtering coating target tantalum sp….
Магнетронно разпрашване покритие мишена тантал сп….

Rotary Molybdenum Sputtering Target.
Ротари молибден sputtering целни.

Sputtering is another way of physical vapor deposition technology.
Разпрашване е друг начин на физическа vapor отлагане технология.

Advantages of sputtering technology.
Предимства на разпрашване технология.

After sputtering, the film is generally treated by heat treatment.
След разпрашаване, филмът обикновено се лекува чрез топлинна обработка.

Type: Zirconium sputtering target.
Тип: Нанасяне на покритие прахово целеви цирконий.

Sputtering target market size with the global solar cell(million).
Разпрашване размера на целевия пазар с глобалната слънчева клетка(милиона).

Ti/Al: for sputtering target.
Ti/Al: за нанасяне на покритие прахово целеви.

CXMET is the high quanlity supplier of sputtering targets.
CXMET е високо quanlity доставчик на нанасяне на покритие прахово цели.

High purity sputtering target industry chain.
Разпрашване целеви промишленост верига с висока чистота.

So the magnetic circuit design is the most important part of the magnetron sputtering source.
Така че дизайнът на магнитната верига е най-важната част от магнетронния разпрашващ източник.