Examples of using Sputtering in English and their translations into Hindi
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Colloquial
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Ecclesiastic
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Ecclesiastic
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Computer
Best price tantalum sputtering target.
सर्वश्रेष्ठ मूल्य टैंटलम स्पुतरिंग लक्ष्य।PVD Coating generally has two sub-categories: evaporation and sputtering.
PVD कोटिंग आम तौर पर दो उप श्रेणियों: वाष्पीकरण और sputtering है।Molybdenum sputtering target with best price.
मोलिब्डेनम स्पिटिंग लक्ष्य सबसे अच्छी कीमत के साथ।The process is called'sputtering.
इसे अब'स्केटबोर्डिन्ग'(skateboarding) कहा जाता है।So the feature of Pure tungsten sputtering target for sale is high temperature resistance.
People also translate
Deposition source: balanced/unbalanced sputtering cathodes.
जमाव स्रोत: संतुलित/ असंतुलित स्पंदनिंग कैथोड।Magnetron sputtering working principle of vacuum coating machine, the so-called"splash", under the.
वैक्यूम कोटिंग मशीन, तथाकथित"स्पलैश" के तहत मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कार्य सिद्धांत।Molybdenum plate target for sputtering China Manufacturer.
चीन स्पॉटरिंग के लिए 99.97% मोलिब्डेनम प्लेट लक्ष्य निर्माता।Previous: The flat panel Display coating industry brass target copper sputtering target.
So the feature of High temperature molybdenum sputtering target is high temperature resistance.
इसलिए उच्च तापमान मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य की विशेषता उच्च तापमान प्रतिरोध है।Molybdenum Sputtering Target Mo 99.95% Molybdenum Target is the main products of our company.
मोलिब्डेनम स्पटरिंग टार्गेट मो 99.95% मोलिब्डेनम टारगेट हमारी कंपनी के मुख्य उत्पाद हैं।Arc ion deposition alloy film magnetron sputtering vacuum coater.
आर्क आयन जमाव मिश्र धातु फिल्म मैग्नेट्रॉन स्पुतरिंग वैक्यूम कोएटर।The sputtering area of the target surface is increased, resulting in a reduction in the power density of the target surface.
लक्ष्य की सतह के sputtering क्षेत्र में वृद्धि हुई है, जिसके परिणामस्वरूप लक्ष्य सतह की शक्ति घनत्व में कमी।Previous: 10WT% ITOglass Indium tin oxide magnetron sputtering coating target.
पिछला: 10WT% ITOकांच ईण्डीयुम टिन ऑक्साइड magnetron sputtering कोटिंग लक्ष्य।High purty HIP rolled pure chromium sputtering target for coating film- China Alluter Technology（Shenzhen.
उच्च purty हिप कोटिंग फिलिम लागि लक्षित sputtering शुद्ध क्रोमियम रोल्ड- चीन Alluter प्रौद्योगिकी(शेन्जेन)।Sputtering deposition is the deposition of particles vaporized from a surface, which is called the“sputtering target,” by the physical sputtering process. 2.
स्पुतरिंग ब्योशन एक सतह से वाष्पीकृत कणों का बयान है, जिसे भौतिक sputtering प्रक्रिया द्वारा"स्पुतरिंग लक्ष्य" कहा जाता है। 2।Such as Nano ceramic IR film, Magnetron sputtering film, Security film, Decorative film.
जैसे नैनो सिरेमिक आईआर फिल्म, मैग्नेट्रोन स्पटरिंग फिल्म, सिक्योरिटी फिल्म, डेकोरेटिव फिल्म।Molybdenum Sputtering Target Mo 99.95% Molybdenum Target is widely used in industrial, especially used in single crystal furnace and vacuum furnace.
मोलिब्डेनम स्पटरिंग टार्गेट मो 99.95% मोलिब्डेनम टारगेट व्यापक रूप से औद्योगिक, विशेष रूप से सिंगल क्रिस्टल भट्टी और वैक्यूम भट्टी में उपयोग किया जाता है।Vacuum metallizer is mainly used for sputtering metal, non-metallic material or alloy materials.
वैक्यूम Metallizer मुख्य रूप से sputtering धातु, गैर धातु सामग्री या मिश्र धातु materials।For Niobium sputtering target, we devote to offering our customers with high purities, fine and uniform grain size and early target life size stability.
नाइओबियम स्पूटरिंग लक्ष्य के लिए, हम अपने ग्राहकों को उच्च शुद्धता, ठीक और समान अनाज आकार और शुरुआती लक्ष्य जीवन का आकार स्थिरता प्रदान करने के लिए समर्पित करते हैं।WT% ITO glass Indium tin oxide magnetron sputtering coating target- China Alluter Technology（Shenzhen.
WT% ITO कांच ईण्डीयुम टिन ऑक्साइड magnetron sputtering कोटिंग लक्ष्य- चीन Alluter प्रौद्योगिकी(शेन्ज़ेन)।For magnetron sputtering, the sputtering yield can be increased by increasing the target power, but the target may be melted and cracked due to the thermal load.
मैग्नेट्रॉन स्पथरिंग के लिए, स्पॉटरिंग उपज लक्ष्य शक्ति में वृद्धि करके बढ़ाया जा सकता है, लेकिन लक्ष्य पिघलने और थर्मल लोड के कारण क्रैकिंग के अधीन हो सकता है।The flat panel Displaycoating industry brass target copper sputtering target- China Alluter Technology（Shenzhen.
फ्लैट पैनल डिस्प्लेकोटिंग उद्योग पीतल लक्ष्य तांबा sputtering लक्ष्य- चीन Alluter प्रौद्योगिकी(शेन्ज़ेन)।The above referred niobium sputtering target is one of our company's main products, stable in quality and cheap in price.
ऊपर भेजा नाइओबियम sputtering लक्ष्य गुणवत्ता में स्थिर और कीमत में सस्ते हमारी कंपनी के मुख्य उत्पादों में से एक है।PVD Machine Model:RTAC1616-SPDC equipped with multi-arc vacuum coating sources and DC sputtering cathodes, which available for all plastic and metal substrate products PVD chrome plating.
पीवीडी मशीन मॉडल:आरटीएसी 1616-एसपीडीसी बहु-आर्क वैक्यूम कोटिंग स्रोतों और डीसी स्पटरिंग कैथोड से लैस है, जो सभी प्लास्टिक और धातु सब्सट्रेट उत्पादों पीवीडी क्रोम चढ़ाना के लिए उपलब्ध है।RTAC1250-SP The arc and sputtering integrated series equipment can produce highly reflective black and bronze films specifically for high quality decorative coatings.
RTAC1250-SP चाप और स्पटरिंग एकीकृत श्रृंखला उपकरण विशेष रूप से उच्च गुणवत्ता वाले सजावटी कोटिंग्स के लिए अत्यधिक परावर्तक काले और कांस्य फिल्मों का उत्पादन कर सकते हैं।The material of High Quality Molybdenum Sputtering Target belongs to refractory metals, and High Quality Molybdenum Sputtering Target has the high melting point.
उच्च गुणवत्ता वाले मोलिब्डेनम स्पटरिंग टारगेट की सामग्री दुर्दम्य धातुओं से संबंधित है, और उच्च गुणवत्ता वाले मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य में उच्च गलनांक है।Magnetron sputtering vacuum coating equipment can be widely used in high-grade decorative and functional films for watch, glasses, communications, electronics, machinery, decoration, transportation aviation and other industries.
Magnetron sputtering वैक्यूम कोटिंग उपकरण व्यापक रूप से घड़ी, चश्मा, संचार, इलेक्ट्रॉनिक्स, मशीनरी, सजावट, परिवहन विमानन और अन्य industries।Pure molybdenum target, also known as molybdenum sputtering target, can be divided into two types, that is, molybdenum planar target and molybdenum rotary target….
यह भी मोलिब्डेनम sputtering लक्ष्य के रूप में जाना जाता शुद्ध मोलिब्डेनम लक्ष्य, वह यह है कि मोलिब्डेनम तलीय लक्ष्य और मोलिब्डेनम रोटरी लक्ष्य दो प्रकार में विभाजित किया जा सकता है।…।
