Examples of using Sputtering in English and their translations into Hungarian
{-}
-
Colloquial
-
Official
-
Medicine
-
Ecclesiastic
-
Financial
-
Programming
-
Official/political
-
Computer
(Sputtering Increases).
(Az akadozás fokozódik).Rotatable Sputtering Targets.
Síkbeli Sputtering célok.Sputtering targets for coating.
Sputterelő célok a bevonáshoz.Introduction of sputtering target.
Bevezetésével fröcsögő beszéd cél.The outer wall is decorated with glass with or without sputtering.
A külsõ falat pohárral díszítik, porlasztással vagy anélkül.
People also translate
Passive sputtering(PVD method).
Passzív fémbevonás(PVD eljárás) Reaktív fémbevonás.Solar PV and Heating industry 99.999% sputtering tar….
China Niobium Sputtering Coating Target/Sheet….
Product Name: Titanium rotatable sputtering target.
Termék megnevezése: Titán forgatható porlasztási cél.Magnetron sputtering coating target Nickel sput….
Magnetronos porlasztással bevonat megcélzott Nikkel sput….TiN DLC coating alloy magnetron sputtering coat….
TiN DLC bevonat ötvözet magnetronos porlasztással kabát….In addition, sputtering is carried out on separate portions or the entire surface.
Various models magnetron sputtering equipment, etc.
Különböző modellek magnetron sputtering berendezések, stb.Generally speaking, there are several characteristics of the thin film coating by sputtering process.
Általánosságban vannak a vékony bevonat sputtering eljárás több jellemzői.Global semiconductor sputtering target market size.
Globális félvezető porlasztás cél piac mérete.Internal open orshort circuits which may be due to physical abuse or sputtering.
Belső szakadás vagy rövidzárlat, amely lehet fizikai behatás vagy a porlasztódás(sputtering) következménye.NbOx target magnetron sputtering coating target.
NbOx megcélzott magnetronos porlasztással bevonat megcélzott.We are china sputtering targets manufacture, mainly supply for thin film deposition, cathode sputtering, and pvd coating.
VagyunkKína sputtering tárolók gyártása,főleg ellátásánakvékonyréteg leválasztás katódos porlasztás és pvd bevonat.AlNd 97:3wt% alloy magnetron sputtering coating….
AlNd 97: 3 tömeg% alumínium magnetronos porlasztással bevonat….In the magnetron sputtering process, the titanium target is one of the most commonly used targets.
A magnetron porlasztási folyamatában a titán célpont az egyik leggyakrabban használt célpont.NiV 97:3wt% Nickel vanadium alloy sputtering ta….
NIV 97: 3 tömeg% nikkel-vanádium ötvözet katódporlasztással ta….In 2014 the global semiconductor sputtering target sales of $1 billion 160 million.
Ben a globális félvezető porlasztás célzott értékesítés 1 milliárd 160 millió dolláros.WT% ITO glass Indium tin oxide magnetron sputtering coating target.
Tömeg% ITO üveg indium-ón-oxid magnetronos porlasztással bevonattal megcélzott.Alloy NiCr Nickle chromium sputtering target rotarable/ planar.
NiCr Nikkel-króm fröcsögő beszéd cél rotarable/ síkbeli.Next: customized by drawing Zrconium magnetron sputtering coating target.
Következő: testre rajz Zrconium magnetronos porlasztással bevonat target.SS/316L stainless steel magnetron sputtering coating target.
SS/ 316L rozsdamentes acél magnetronos porlasztással bevonat megcélzott.Previous: AlNd 97:3wt% alloy magnetron sputtering coating target.
Előző: AlNd 97: 3 tömeg% alumínium magnetronos porlasztással bevonat megcélzott.Next: 304 SS/316L stainless steel magnetron sputtering coating target.
Következő: 304 SS/ 316L rozsdamentes acél magnetronos porlasztással bevonat megcélzott.To avoid the high cost and poor performance of sputtering metallization.
Hogy elkerüljék Stainless steel alsocan be colored by electrochemical coloring, sputtering, plating, and resin-based paints.
Rozsdamentes acél is lehet színezni elektrokémiai színezés, porlasztás, galvanizáló, és gyanta-alapú festékek.
