What is the translation of " ELECTRON BEAM " in Hebrew?

• קרן אלקטרונים
• את קרן האלקטרונים
• אלומת אלקטרונים

Examples of using Electron beam in English and their translations into Hebrew

Electron Beam welding.
קרן אלקטרונים ריתוך.

CT scanning systems with electron beam.
מערכות סריקת סי. טי עם קרן אלקטרונים.

Electron Beam Tomography.
טומוגרפיית קרן אלקטרונים.

Hardness, Brinell, electron beam ingot: 60.
קשיות, Brinell, מטיל קרן אלקטרונים: 60.

Electron Beam Welding- requires advanced equipment.
קרן אלקטרונים ריתוך- דורש ציוד מתקדם.

This experiment takes an electron beam and transmits it through a piece of graphite.
בניסוי, מייצרים קרן אלקטרונים ומשדרים אותה דרך חתיכת גרפיט.

EBW is often performed under vacuum conditions to prevent dissipation of the electron beam.
EBW מבוצע בדרך כלל בתנאי ואקום כדי למנוע פיזור של קרן האלקטרונים.

Electron beam technology Ion beam lithography Maskless lithography Photolithography.
טכנולוגיית קרן אלקטרונים ננוטכנולוגיה פוטוליתוגרפיה ננואלקטרוניקה.

Other welding methods used for these material include gas metal arc welding(GMAW), plasma arc welding, electron beam welding and resistance welding.
שיטות ריתוך אחרות ששימשו עבור אלה כוללים גשמי גז מתכת ריתוך(GMAW), ריתוך פלזמה, ריתוך קרן אלקטרונים, ההתנגדות ריתוך.

Electron Beam Welding produces excellent quality welds which are characterized by narrow weld zones and good penetration.
ריתוך קרן אלקטרונים מייצרת ריתוכים באיכות מעולה אשר מאופיינים על ידי ריתוך צר אזורי, חדירה טובה.

By rotation of dish-shaped X-ray targets under the electron beam, a new, already cooled part of the target surface is continually used as the focal spot.
על ידי הסיבוב של צלחת בצורת קרני ה-X מטרות תחת אלומת אלקטרונים, חלק חדש, מקורר כבר משטח היעד משמש ללא הרף כמו המקום מרחק.

Electron-beam physical vapor deposition, or EBPVD, is a form of physical vapor deposition in which a target anode is bombarded with an electron beam given off by a charged tungsten filament under high vacuum. The electron beam causes atoms from the target to transform into the gaseous phase. These atoms then precipitate into solid form, coating everything in the vacuum chamber(within line of sight) with a thin layer of the anode material.
נידוף באמצעות קרן אלקטרונים,(באנגלית: Electron-beam physical vapor deposition, EBPVD), הוא תהליך בו אנודת מטרה מופצצת עם קרן אלקטרונים הנפלטת על ידי פילם טונגסטן טעון תחת ואקום גבוה. קרן האלקטרונים גורמת לאטומים מהמטרה לעבור למצב גזי. אטומים אלה מתבדלים לצורה מוצקה, ומצפים את כל תא הוואקום(בהתאם לקווי הראייה) בשכבה דקה של חומר האנודה.

As is the case with electron microscopy, the method is generally based on the concept of an electron beam being directed at an object and diffracted as a result.
בדומה למיקרוסקופית אלקטרונים, השיטה מבוססת באופן כללי על הרעיון של אלומת אלקטרונים המכוונת לעבר עצם ואשר משתברת ממנו.

There are also welding machines in which the electron beam is brought out of vacuum into the atmosphere. With such equipment very large objects can be welded without huge working chambers.
ישנן גם מכונות ריתוך בהן אלומת קרן האלקטרונים מועברת מתא הואקום אל מחוץ לתא כדי לרתך מערכות גדולות מחוץ לתא.

It can be more than three-phase, there may create various resonance and interference, and may affect other on that place appearing electron beams and thus"paint on the field" many various symmetrical crop circle pictograms.
זה יכול להיות יותר מ שלב 3, יכול ליצור תהודה הפרעות שונות, ועלולים להשפיע על אחרים על מקום להופיע אלומות אלקטרונים ובכך"לצייר על המגרש" רבים שונים סימטריים מעגל הציורים הצומח.

To explain the capability of the electron beam to produce deep and narrow welds, the process of"penetration" must be explained. First of all, the process for a"single" electron can be considered.
כדי להסביר את יכולתה של קרן האלקטרונים לייצר ריתוכים עמוקים וצרים, יש להסביר את תהליך ה"חדירה", דרך התהליך שעובר אלקטרון"יחיד".

To avoid chemical interactions between the filament and the ingot material, the filament is kept out of sight. A magnetic field is employed to direct the electron beam from its source to the ingot location. An additional electric field can be used to steer the beam over the ingot surface allowing uniform heating.
חומר המטרה מוחזק בפוטנציאל חיובי ביחס לחוט הלהט. כדי להימנע מאינטראקציות כימיות בין הלהט לבין חומר המטיל, הוא נשמר מחוץ לטווח הראייה. נעשה שימוש בשדה מגנטי כדי לכוון את קרן האלקטרונים ממקורו למיקום המטרה. ניתן להשתמש בשדה חשמלי נוסף בכדי לכוון את הקרן מעל פני המטרה המאפשר חימום אחיד.

Since the CRT can only bend the electron beam through a critical angle while still maintaining focus, the electron gun has to be located some distance from the front face of the television.
מאז CRT יכול רק לכופף את קרן האלקטרונים דרך זווית קריטית תוך שמירה על המיקוד, האקדח אלקטרונים חייב להיות ממוקם במרחק מה מן הפנים הקדמיות של הטלוויזיה.

Vacuum metallizing involves heating the coating metal to its boiling point in a vacuum chamber, then letting condensation deposit the metal on the substrate's surface. Resistance heating, electron beam, or plasma heating is used to vaporize the coating metal. Vacuum metallizing was used to deposit aluminum on the large glass mirrors of reflecting telescopes, such as with the Hale telescope.
ציפוי מתכתי בואקום תהליך זה מבוסס על חימום של מתכת הציפוי עד לסף טמפרטורת הרתיחה בתוך תא ואקום, ואז בתהליך של עיבוי מצפה המתכת את פני השטח של החלק המצופה. אידוי מתכת הציפוי מבוצע על ידי\תהליכים כמו: חימום בהתנגדות, חימום בעזרת קרן אלקטרונים או חימום בפלזמה. צפוי מתכתי בואקום משמש לבניית שכבת אלומיניום על מראות זכוכית. שימוש מיוחד בציפוי זה מבוצע במראות הזכוכית של טלסקופים.

Electron gun, generating the electron beam, Working chamber, mostly evacuated to"low" or"high" vacuum, Workpiece manipulator(positioning mechanism), Power supply and control and monitoring electronics.
אקדח אלקטרונים, מייצר קרן אלקטרונים, תא עבודה, שמאופיין על ידי וואקום"נמוך" או"גבוה", מערכת הנעה לחלק העובד. אספקת חשמל ובקרה וניטור אלקטרוניקה.

Gold produces a high output of secondary electrons when irradiated by an electron beam, and these low-energy electrons are the most commonly used signal source used in the scanning electron microscope.
זהב גם מייצר תפוקה גבוהה של אלקטרונים משני כאשר מוקרן על ידי קרן אלקטרון, ואת אלה נמוכה האלקטרונים האנרגיה הם המקור הנפוץ ביותר בשימוש אות מיקרוסקופ אלקטרונים סורק.

An electron lithograph is produced by a very finely focused electron beam, which creates micro-structures in the resist that can subsequently be transferred to the substrate material, often by etching. It was originally developed for manufacturing integrated circuits and is also used for creating nanotechnology architectures. Electron lithographs uses electron beams with diameters ranging from two nanometers up to hundreds of nanometers.
ליתוגרפיה אלקטרונית מיוצרת על ידי קרן אלקטרונים ממוקדת מאוד, היוצרת מיקרו- מבנים ב התנגדות אשר לאחר מ כן ניתן להעביר ל חומר המצע, לעתים קרובות על ידי איכול. הוא פותח ב ה מקור ל ייצור מעגלים משולבים ו משמש גם ל יצירת ארכיטקטורות ננו- טכנולוגיות. ליטוגרפיות אלקטרוניותמשתמשות ב ה קרן אלקטרונים בקוטר ש נע בין שני ננומטר למאות ננומטר. ליתוגרפיית האלקטרונים משמשת גם ל ייצור הולוגרמות ממוחשבות( CGH). ליתוגרפיה אלקטרונית מצאה שימוש נרחב ב ה ייצור כלי מיסוך ב ה תהליכים לפוטוליתוגרפיה, ו בעיקר ל ייצור בנפח נמוך של רכיבי מוליכים למחצה.

The rapid increase of temperature at the location of impact can quickly melt a target material. In extreme working conditions, the rapid temperature increase can even lead to evaporation, making an electron beam an excellent tool in heating applications, such as welding. Electron beam technology is used in cable-isolation treatment, in electron lithography of sub-micrometer and nano-dimensional images, in microelectronics for electron-beam curing of color printing[ 1] and for the fabrication and modification of polymers, including liquid-crystal films, among many other applications.
ה עלייה המהירה של ה טמפרטורה במקום ה פגיעה יכולה להמיס חומר מטרה ב מהירות. ב תנאי עבודה קיצוניים, עליית ה טמפרטורה המהירה יכולה אפילו להוביל להתאדות, מה ש הופך את קרן האלקטרונים לכלי מצוין ביישומי חימום, כגון ריתוך. טכנולוגיית קרן אלקטרונים משמשת ל טיפול ב בידוד כבלים, בליטוגרפיה אלקטרונית של תמונות זעירות ב ערכים של תת- מיקרומטר ו תמונות בערכי ננו, במיקרו- אלקטרוניקה, קרן האלקטרונים משמשת ל שיפור של הדפסות ב צבע[ 1] ול ה ייצור ו שינוי של פולימרים, בין יישומים רבים אחרים.

Lightning discharges are something like electron beams, and there are in progress extremely high electrostatic and electromagnetic fields, able to change direction of such beams like TV or oscilloscope vacuum tube.
הפרשות ברקים הם משהו כמו אלומות אלקטרונים, ויש התקדמות בתחומים גבוהות מאוד אלקטרוסטטי אלקטרומגנטית, מסוגל לשנות את הכיוון של קורות כאלה כמו שפופרת ריק טלוויזיה או אוסצילוסקופ.

Not all materials can be welded by an electron beam in a vacuum. This technology cannot be applied to materials with high vapour pressure at the melting temperature, like zinc, cadmium, magnesium and practically all non-metals.
לא כל החומרים ניתנים לריתוך באמצעות קרן אלקטרונים בוואקום. לא ניתן להחיל טכנולוגיה זו על חומרים עם לחץ אדים גבוה בטמפרטורת ההיתוך, כמו אבץ, קדמיום, מגנזיום וכמובן על חומרים שאינם מתכתיים.

Since producing the first laser-plasma-driven electron beams in the late 1980s, Prof. Malka has demonstrated new applications in many diverse fields such as medicine, aerospace, and security- for instance, for scanning a truck for hidden explosives- and more.
מאז שייצר את קרן האלקטרונים המונעת על ידי לייזר-פלזמה הראשונה בסוף שנות ה- 80, פרופ' מלכה המציא שיטות חדשות לשימוש בפלזמה במגוון תחומים כמו רפואה, תעופה וחלל, ואבטחה- למשל, לטובת סריקת משאיות לאיתור חומרי נפץ.

It is also possible to imagine that during an impact of electron beam, in the case of consecutive or paralel lightning discharges, that is streaming throughout the very strong rotating electromagnetic field may arise highly symmetrical crop circle pictograms, according to many axes.
כמו כן ניתן להעלות על הדעת כי במהלך ההשפעה של קרן אלקטרונים, במקרה של הפרשות ברק רצופים או paralel, כלומר הזרמת ברחבי השדה האלקטרומגנטי חזק מאוד מסתובב עשוי להיווצר מעגל סימטרי מאוד הציורים הצומח, על פי צירים רבים.

Having already succeeded in'filming' inter-molecular chemical reactions-- using the electron beam of a transmission electron microscope(TEM) as a stop-frame imaging tool-- they have now achieved time-resolved imaging of atomic-scale dynamics and chemical transformations promoted by metal nanoclusters.
לאחר שכבר הצלחנו"לצלם" תגובות מולקולריות כימיות- באמצעות קרן האלקטרונים של מיקרוסקופ אלקטרונים(TEM) ככלי הדמיה של מסגרת עצירה, הם השיגו כעת הדמיה מוחלטת בזמן של דינמיקה בקנה מידה אטומי ושינויים כימיים המקודמים על ידי מתכת nanoclusters.