Що таке ION BEAM Українською - Українська переклад

• іонним променем
• ion beam

Приклади вживання Ion beam Англійська мовою та їх переклад на Українською

Ion Beam Shepherd.
КА-пастуха Іонним променем.

Project“space sheppard” with ion beam. ideas and problems.
Проект«космічного пастуха» з іонним променем. Ідеї і задачі.

Cold atoms could replace hot gallium in focused ion beams.
Холодні атоми могли б замінити гарячої галію в фокусованих іонних пучків.

In some embodiments, ion beams for irradiating biomass materials include positively-charged ions..
У деяких варіантах здійснення, іонні пучки для опромінення матеріалів біомаси містять позитивно заряджені іони.

Illustrations, schemes and figures explaining the working principles of the Ion Beam Shepherd concept and its possible applications.
Ілюстрації, схеми та числа, що пояснюють принципи роботи КА-пастуха з Іонним променем та його можливі застосування.

For example, ion beams can include mixtures of two or more(e.g., three, four or more) different types of ions..
Наприклад, іонні пучки можуть містити суміш двох або більше(наприклад, трьох, чотирьох або більше) різних типів іонів.

The article is devoted to the improvement of the technology for contactless space debris removal called"Ion Beam Shepherd".
Статтю присвячено вдосконаленню технології безконтактного видалення космічного сміття, що отримала назву«Пастух з іонним променем».

For example, in some embodiments, ion beams can include relatively light ions, such as protons and/or helium ions..
Наприклад, в деяких варіантах здійснення, іонні пучки можуть містити відносно легкі іони, такі як протони і/або іони гелію.

More generally, mixtures of any of the ions discussed above(or any other ions) can be used to form irradiating ion beams.
У більш загальному розумінні, суміші будь-яких іонів, обговорювані вище(або будь-яких інших іонів), можуть використовуватися для формування іонних пучків для опромінення.

In general, the ion beams can also include more complex polynuclear ions that bear multiple positive or negative charges.
Загалом, іонні пучки можуть також містити більш складні багатоядерні іони, які несуть множину позитивних або негативних зарядів.

The device for electron beam irradiation can be obtained commercially from Ion Beam Applications, Louvan-La-Neuve, Belgium or the Titan Corporation, San Diego, California.
Пристрої для опромінення пучками електронів можуть постачатися комерційно Ion Beam Applications,Louvain-la-Neuve, Belgium, або Titan Corporation, San Diego, CA.

In general, the ion beams can also include more complex polynuclear ions that bear multiple positive or negative charges.
У загальному випадку іонні пучки можуть також містити більш складні багатоядерні іони, що несуть множинні позитивні або негативні заряди.

After selecting the target“cleaner” suited to space debris and“blowing” it ion beam(directional flow of ions), giving a rate of slightly less debris 11 m/ s.
Після вибору мети“прибиральник” підходить до космічного сміття і“дме” на нього іонним пучком(спрямованим потоком іонів), надаючи сміттю швидкість трохи менше 11 м/ с.

In principle, ion beams also could produce better images of nanoscale surface features than conventional electron microscopy.
В принципі, пучки іонів також може виробляти кращі зображення нанорозмірних поверхневих особливостей порівняно зі звичайними електронної мікроскопії.

Electron beam irradiation devices may be procured commercially from Ion Beam Applications, Louvain-la-Neuve, Belgium or from Titan Corporation, San Diego, CA.
Пристрої для електронно-променевого опромінення можна придбати у компанії Ion Beam Applications, Louvain-la-Neuve, Бельгія або у компанії Titan Corporation, Сан-Дієго, Каліфорнія.

Focused ion beams can directly remove material, or even deposit material when suitable precursor gasses are applied at the same time.
Фокусований іонний жмут, може безпосередньо видалити, або, навіть, зберігати матеріал, коли застосовуються одночасно відповідні гази-попередники.

Researchers have tried using other types of ions but were unable to produce the brightness or intensity necessary for the ion beam to cut into most materials.
Дослідники спробували використовувати інші види іонів, але були не в змозі проводити яскравості або інтенсивності необхідної для іонного пучка, щоб скоротити до більшості матеріалів.

The preceding discussion has focused on ion beams that include mononuclear ions and/or neutral particles(e.g., atomic ions and neutral atoms).
Попереднє обговорення було зосереджене на іонних пучках, які містять одноядерні іони і/або нейтральні частинки(наприклад, атомні іони і нейтральні атоми).

The same technique, says McClelland, can be used with a wide variety of other atoms, which could be selected for special tasks such as milling nanoscale features without introducing contaminants, or to enhance contrast for ion beam microscopy.
Та ж сама техніка, каже, МакКлелланда, може використовуватися з широким колом інших атомів, які можуть бути обрані для вирішення спеціальних завдань, таких як фрезерування нанорозмірних особливості без введення забруднюючих речовин, а також для посилення контрасту для мікроскопії пучок іонів.

For example, ion beams can include positive and/or negative ions and/or neutral particles formed from species such as N2, O2, H2, CH4, and other molecular species.
Наприклад, іонні пучки можуть містити позитивні і/або негативні іони і/або нейтральні частинки, сформовані з таких частинок як N2, O2, H2, CH4, і з інших молекулярних частинок.

Sputtering Illustrations, schemes and figures analyzing the sputtering phenomenon due to the Ion Beam- Target interaction, and the backsputtering pollution upon the Ion Beam Shepherd.
Ілюстрації, схеми та числа, що аналізують явища вибивання атомів матеріалу внаслідок взаємодії іонного променя з мішенню, і влучення частини цих атомів на КА-пастух з іонним променем..

Ion beam techniques are widely used in the microelectronics industry to tailor the conductivity of semiconductors such as silicon, but attempts to adapt this process to plastic films have been made since the 1980s with only limited success- until now.
Іонні променеві методи широко використовуються в промисловості мікроелектроніки для пристосування питомої електропровідності таких напівпровідників як, наприклад, кремній, але спроби застосовувати цей процес щодо пластикових оболонок проводились із обмеженим успіхом ще з 1980 року.

LEOSWEEP is a 3-year EU funded FP7 project devoted to the development of the ion beam shepherd(IBS) technology for the removal of large debris object from crowded regions in low earth orbit(LEO).
LEOSWEEP- 3-річний проект FP7, що фінансований ЄС, присвячений розвитку технології КА-пастуха з іонним променем(IBS) для видалення великих об'єктів космічного сміття з переповнених областей низьких навколоземних орбіт(ННО).

The LEOSWEEP project is aimed to create conditions for the near future work on a large-scale removal of debris with the help of technology that uses an ion beam to create braking forces for the subsequent removal of space debris from the orbit(Slide 7).
Проект LEOSWEEP спрямований на створення умов, що забезпечують у найближчому майбутньому проведення робіт з видалення великомасштабного сміття за допомогою технології, що використовує іонний промінь для створення сил гальмування і наступного відведення фрагмента космічного сміття з орбіти(слайд 7).

What the team has been able to do here is use an ion beam to tune the properties of a plastic film so that it conducts electricity like the metals used in the electrical wires themselves, and even to act as a superconductor and pass electric current without resistance if cooled to low enough temperature," says Professor Meredith.
Науково-дослідній групі вдалося за допомогою іонного променя налашатувати властивості пластикової оболонки так, щоб вона проводила електрику подібно металам, використовуваним в електричних проводах і навіть діяти так, як надпровідник і проводити електричний струм без опору за умови достатнього зниження температури"- повідомив професор Мередіт.

The book is written for professionals working in the field of surface modification by using ion beams and plasma flows, materials, can be useful for graduate students and professors who specialize in the field of solid state physics.
Книга написана для фахівців, що працюють у галузі модифікації поверхні за допомогою іонних пучків і потоків плазми, матеріалознавства, може бути корисною для аспірантів і викладачів, які спеціалізуються в галузі фізики твердого тіла.