영어에서 Sputtering 을 사용하는 예와 한국어로 번역
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Sputtering Method.
Rotary Wti Sputtering Plate Target.
로타리 WTI 스퍼터링 플레이트 대상.Sputtering Targets.
The material for our sputtering targets….
우리의 스퍼터 링 대상에 대 한 자료….Sputtering Targets/Cathodes.
스퍼터 링 타겟/음극.
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홈 > 제작품 > 스퍼터 링 타겟/음극.Sputtering Sensor- INFICON.
스퍼터링 센서 - INFICON.It is necessary to adjust sputtering parameters.
Sputtering parameters 등을 조절하여야 한다.Sputtering Targets:(Diameters).
스퍼터 링 타겟: (직경).AlNd 97:3wt% alloy magnetron sputtering coating….
AlNd 97: 3 중량 % 합금 마그네트론 스퍼터링 코팅….Our Sputtering Target Products: 2.
우리의 스퍼터 링 대상 제품: 2.Indium Zinc Oxide High Purity IZO for Sputtering Target.
IZO 침을 튀기기 표적을 가진 인듐 산화아연 높은 순수성.Types of sputtering target in CXMET.
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장 비 명: Magnetron Sputtering System.Pulsed Sputtering Power(KW) 2* 48.
맥박이 뛴 침을 튀기기 힘 (KW) 2* 48.The fourth car film is a metal magnetron sputtering film.
네 번째 자동차 필름은 금속 마그네트론 스퍼터링 필름입니다.Sputtering Targets(Sputter Target).
스퍼터링 타겟(Sputtering Target).The fourth Auto Film is a metal magnetron sputtering film.
네 번째 Auto Film은 금속 마그네트론 스퍼터링 필름입니다.Gr1 Sputtering Coating Titanium Round Target.
Gr1 스퍼터 링 코팅 티타늄 라운드 대상.Molybdenum target is mainly used in plasma sputtering industry.
몰리브덴 타겟은 주로 플라즈마 스퍼터링 산업에서 사용된다.China Niobium Sputtering Coating Target/Sheet/Plate/Foil.
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ASTM B381 Gr2 티타늄 대상 스퍼터 링 코팅 Dia63 * 32 m m.Does pulsed DC remove sputtering energy during the reverse pulse?
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Reactive Magnetron Sputtering에서 박막두께를 2~4배 향상시킬 수 있습니다.Sputtering Target for Sputtering CoatingSep 09, 2016.
스퍼터 링 타겟 스퍼터 링 코팅에 대 한Sep 09, 2016.Home> Products> Sputtering Targets/Cathodes> Arc Cathodes.
홈 > 제작품 > 스퍼터 링 타겟/음극 > 아크 음극.
