SPUTTERING на Русском - Русский перевод

• распыления
• напыления
• напылительного
• распыление
• напыление
• напылением
• распылении

Примеры использования Sputtering на Английском языке и их переводы на Русский язык

Engine sputtering.
ДВИГАТЕЛЬ БОРМОЧЕТ.

Sputtering zone of 150 mm is sufficient to get most of precision coatings.
Зона напыления 150 мм достаточна для получения большинства прецизионных покрытий.

Coughing and sputtering.
Кашляет и бормочет.

Car engine sputtering I have the worst luck!
Тарахтит двигатель машины Я- неудачница!

Ion Source II-52 ion source for sputtering targets;
Источник ионов ИИ- 52 для распыления мишеней;

Ion-beam sputtering of conductive and dielectric targets;
Ионно- лучевое распыление проводящих и диэлектрических мишеней.

DC magnetrons are mainly used for metals sputtering by using the inert gases.
В основном DC магнетроны применяют для распыления металлов, используя инертные газы.

Coating for painting: Alkyd, Epoxy, Zinc coating, Polyurethane, Zinc sputtering.
Покрытие для покраски: алкид, эпоксид, цинковое покрытие, полиуретан, распыление цинка.

Keywords: target, sputtering, vapor, coating, deposition, fast molecules.
Ключевые слова: мишень, распыление, пар, покрытие, осаждение, быстрые молекулы.

The Aluminum keyboard has wearproof silvery sputtering on all keys as well.
Алюминиевую» клавиатуру также отличает стойкое серебристое напыление на всех клавишах.

Sputtering of titanium-nickel-silver on the rear part of the devices for solder.
Напыление титан- никель- серебро обратной стороны приборов( под пайку)- установки серий- 2013 и- 2015.

Control of the process of sputtering quarter-wave and not-equally-thick coatings.
Контроль процесса напыления четвертьволновых и неравнотолщинных покрытий.

Metastable states in Co-C alloys obtained by the method of ion-plasma sputtering.
Метастабильные состояния в сплавах Co- C, полу- ченных методом ионно- плазменного напыления.

Four magnetrons for metals sputtering, target diameter is 150 mm.
Система распыления Четыре магнетрона для распыления металлов, диаметр мишени 150 мм.

PVD Spark company manufactures and sells facilities for thin films vacuum sputtering by PVD methods.
Компания PVD Spark производит и продает установки для вакуумного напыления тонких пленок методами PVD.

It is equipped with a sputtering option, so also electrically conductive solids can be transmitted.
Он оснащен распыления вариант, также электрически проводящих тел может быть передано.

Ion-beam cleaning of optical parts before sputtering(lenses, input windows, etc.).
Ионно- лучевая очистка оптических деталей перед напылением( линзы, входные окна, и т. д.).

Sputtering materials in vacuum by thermal evaporation- the basic technology for a wide range of applications.
Напыление материалов в вакууме методом термического испарения- основная технология для широкого спектра применений.

RFPG-128 plasma generator for substrates cleaning, cathode sputtering and ion assistance;
Генератор плазмы РПГ- 128 для очистки подложек, катодного распыления и ионного ассистирования;

Production of vacuum sputtering equipment for the flat panel display industry is one of the Izovac's strong points.
Производство вакуумного напылительного оборудования для дисплейной промышленности является одной из сильных сторон компании Изовак.

Applying Invariant Embedding Methods to the Theory of Thin Film Sputtering by Light_Ion Bombardment.
Методы инвариантного погружения в теории распыления тонких пленок легкими ионами// Известия РАН.

Films obtained by ion-beam sputtering method have absolute value of roughness Rpv= 4.0 nm with mean square deviation Rms= 0.19 nm.
Пленки, получаемые методом ионно- лучевого распыления, имеют абсолютную величину шероховатости Rpv= 4, nm со среднеквадратичным отклонением Rms=, 19 nm.

Key words: vacuum chamber, electron gun, atomic-ion sputtering, RF ionization, protective coatings.
Ключевые слова: вакуумная камера, электронная пушка, атомно- ионное распыление, ВЧ- ионизация, защитные покрытия.

Dimensions of the holder allow to load for treatment up to 8 substrates measuring 60x48mm for two-side sputtering.
Размеры держателя позволяют загружать для обработки до 23 подложек размером 60х48 мм для двустороннего напыления.

The model for projection runaway speed sputtering particles and their parameters is presented.
Представлена модель для прогнозирования скорости разгона напыляемых частиц и их параметры.

Scientific-technical firm IZOVAC is a well-known brand name amidst manufacturers of vacuum sputtering equipment in CIS.
Научно-техническая фирма“ ИЗОВАК"- известное имя в среде производителей вакуумного напылительного оборудования СНГ.

Keywords: glow discharge, target, sputtering, metal atoms, deposition, fast argon atoms.
Ключевые слова: тлеющий разряд, мишень, распыление, атомы металла, осаждение, быстрые атомы аргона.

Laboratory of vacuum technologies commercializes high-productive machines NIKA for magnetron sputtering of crockery, cutlery, accessories.
Лаборатория вакуумных технологий выпускает серию высокопроизводительных магнетронных установок НИКА для напыления посуды, столовых приборов, фурнитуры.

Technology of ion-beam sputtering IBSS is designed for deposition of precision multi-layer coatings having high density and low roughness.
Технология ионно- лучевого распыления IBSS предназначена для нанесения прецизионных многослойных покрытий с высокой плотностью и низкой шероховатостью.

System is designed for magnetron and thermal sputtering, ion etching, plasma-chemical processes.
Предназначена для магнетронного и термического напыления, ионного травления, плазмохимических процессов.